Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019048633) MOULE POUR LITHOGRAPHIE PAR NANO-IMPRESSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/048633 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/074193
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 07.09.2018
CIB :
G03F 7/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
Déposants :
LUXEMBOURG INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY (LIST) [LU/LU]; 5, avenue des Hauts-Fourneaux 4362 Esch-sur-Alzette, LU
Inventeurs :
SPIRITO, David; BE
LENOBLE, Damien; BE
Mandataire :
LECOMTE & PARTNERS; P.O. Box 1623 1016 Luxembourg, LU
Données relatives à la priorité :
LU10043307.09.2017LU
Titre (EN) MOULD FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY
(FR) MOULE POUR LITHOGRAPHIE PAR NANO-IMPRESSION
Abrégé :
(EN) The invention is directed to nanoimprint lithography mould (1) comprising: a body (2) and a plurality of protrusions (3) extending from the body (2), each protrusion (3) having a proximal area at its proximal end (3.1) and a distal area at its distal end (3.2), away from the body (2), wherein the distal area is smaller than or equal to a quarter of the proximal area.
(FR) L'invention concerne un moule de lithographie par nano-impression (1) comprenant : un corps (2) et une pluralité de saillies (3) s'étendant à partir du corps (2), chaque saillie (3) ayant une zone proximale au niveau de son extrémité proximale (3.1) et une zone distale au niveau de son extrémité distale (3.2), à l'opposé du corps (2), la zone distale étant inférieure ou égale à un quart de la zone proximale.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)