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1. (WO2019048506) PROCÉDÉS D'APPRENTISSAGE DE CORRECTION OPTIQUE D'ERREUR DE PROXIMITÉ ASSISTÉE PAR APPRENTISSAGE AUTOMATIQUE
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N° de publication : WO/2019/048506 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/073914
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 05.09.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 1/36 (2012.01) ,G06F 17/50 (2006.01) ,G06N 99/00
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
36
Masques à correction d'effets de proximité; Leur préparation, p.ex. procédés de conception à correction d'effets de proximité [OPC optical proximity correction]
G PHYSIQUE
06
CALCUL; COMPTAGE
F
TRAITEMENT ÉLECTRIQUE DE DONNÉES NUMÉRIQUES
17
Equipement ou méthodes de traitement de données ou de calcul numérique, spécialement adaptés à des fonctions spécifiques
50
Conception assistée par ordinateur
G PHYSIQUE
06
CALCUL; COMPTAGE
N
SYSTÈMES DE CALCULATEURS BASÉS SUR DES MODÈLES DE CALCUL SPÉCIFIQUES
99
Matière non prévue dans les autres groupes de la présente sous-classe
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
SU, Jing; US
LU, Yen-Wen; US
LUO, Ya; US
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/556,24608.09.2017US
62/725,73431.08.2018US
Titre (EN) TRAINING METHODS FOR MACHINE LEARNING ASSISTED OPTICAL PROXIMITY ERROR CORRECTION
(FR) PROCÉDÉS D'APPRENTISSAGE DE CORRECTION OPTIQUE D'ERREUR DE PROXIMITÉ ASSISTÉE PAR APPRENTISSAGE AUTOMATIQUE
Abrégé :
(EN) A method including: obtaining an optical proximity correction for a spatially shifted version of a training design pattern (5000); and training a machine learning model (5200) configured to predict optical proximity corrections for design patterns using data (5051; 5053) regarding the spatially shifted version of the training design pattern and data (5041; 5043) based on the optical proximity corrections for the spatially shifted version of the training design pattern.
(FR) L'invention concerne un procédé qui comprend les étapes suivantes : obtention d'une correction optique de proximité pour une version décalée dans l'espace d'un motif de conception d'apprentissage (5000); et apprentissage d'un modèle d'apprentissage automatique (5200) configuré afin de prédire des corrections optiques de proximité pour des motifs de conception à l'aide de données (5051; 5053) concernant la version décalée dans l'espace du motif de conception d'apprentissage et des données (5041; 5043) sur la base des corrections optiques de proximité pour la version décalée dans l'espace du motif de conception d'apprentissage.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)