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1. (WO2019048497) GÉNÉRATEUR DE FAISCEAU IONIQUE À NANOFILS
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N° de publication : WO/2019/048497 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/073897
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 05.09.2018
CIB :
H01J 27/26 (2006.01) ,F03H 1/00 (2006.01) ,H01J 37/08 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
27
Tubes à faisceau ionique
02
Sources d'ions; Canons à ions
26
utilisant l'ionisation de surface, p.ex. sources d'ions à effet de champ, sources d'ions thermo-ioniques
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
03
"MACHINES" OU MACHINES MOTRICES À LIQUIDES; MÉCANISMES MOTEURS À VENT, À RESSORTS, À POIDS; PRODUCTION D'ÉNERGIE MÉCANIQUE OU DE POUSSÉE PROPULSIVE PAR RÉACTION, NON PRÉVUE AILLEURS
H
PRODUCTION DE POUSSÉE PROPULSIVE PAR RÉACTION, NON PRÉVUE AILLEURS
1
Utilisation du plasma pour produire une poussée propulsive par réaction
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
08
Sources d'ions; Canons à ions
Déposants :
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 3, rue Michel Ange 75016 Paris, FR
Inventeurs :
GIERAK, Jacques; FR
LEBEAU, Noëlle; FR
Mandataire :
IPAZ; Parc Les Algorithmes Bâtiment Platon CS 70003 Saint-Aubin 91192 GIF-SUR-YVETTE Cedex, FR
Données relatives à la priorité :
175817705.09.2017FR
Titre (EN) ION BEAM GENERATOR WITH NANOWIRES
(FR) GÉNÉRATEUR DE FAISCEAU IONIQUE À NANOFILS
Abrégé :
(EN) The present invention relates to an ion beam generator (10), including an emission electrode (12), an extraction electrode (14), and an electricity generator (16). The emission electrode comprises a substrate (20) and a plurality of nanowires (24) extending away from said substrate, substantially towards the extraction electrode, said nanowires having a length of 50 nm to 50 μm. The emission electrode comprises a source of ions comprising a sheet (42) of ionic liquid (40) formed on the substrate and at least partially immersing the nanowires. Said nanowires and the substrate are electrically insulating or semiconducting, the electricity generator (16) being connected to the sheet (42) of ionic liquid. The emission electrode is thus capable of sending ion beams from the ionic liquid to the extraction electrode.
(FR) La présente invention concerne un générateur (10) de faisceau ionique, comportant une électrode d'émission (12), une électrode d'extraction (14), et un générateur électrique (16). L'électrode d'émission comporte un substrat (20) et une pluralité de nanofils (24) s'étendant à partir dudit substrat, sensiblement en direction de l'électrode d'extraction, lesdits nanofils ayant une longueur comprise entre 50 nm et 50 μm. L'électrode d'émission comporte une source d'ions comprenant une nappe (42) de liquide ionique (40) formée sur le substrat et immergeant au moins partiellement les nanofils. Lesdits nanofils et le substrat sont électriquement isolants ou semi-conducteurs, le générateur électrique (16) étant relié à la nappe (42) de liquide ionique. L'électrode d'émission est ainsi apte à envoyer vers l'électrode d'extraction des faisceaux d'ions issus du liquide ionique.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)