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1. (WO2019048293) PROCÉDÉS D'INSPECTION D'ÉCHANTILLONS AVEC DE MULTIPLES FAISCEAUX DE PARTICULES CHARGÉES
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N° de publication : WO/2019/048293 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/073161
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 28.08.2018
CIB :
H01J 37/28 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
28
avec faisceaux de balayage
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
TSENG, Kuo-Feng; US
DONG, Zhonghua; US
WANG, Yixiang; US
CHEN, Zhongwei; US
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/555,54207.09.2017US
Titre (EN) METHODS OF INSPECTING SAMPLES WITH MULTIPLE BEAMS OF CHARGED PARTICLES
(FR) PROCÉDÉS D'INSPECTION D'ÉCHANTILLONS AVEC DE MULTIPLES FAISCEAUX DE PARTICULES CHARGÉES
Abrégé :
(EN) Disclosed herein is an apparatus comprising: a source configured to emit charged particles, an optical system and a stage; wherein the stage is configured to support a sample thereon and configured to move the sample by a first distance in a first direction; wherein the optical system is configured to form probe spots on the sample with the charged particles; wherein the optical system is configured to move the probe spots by the first distance in the first direction and by a second distance in a second direction, simultaneously, while the stage moves the sample by the first distance in the first direction; wherein the optical system is configured to move the probe spots by the first distance less a width of one of the probe spots in an opposite direction of the first direction, after the stage moves the sample by the first distance in the first direction.
(FR) L'invention concerne un appareil comprenant : une source configurée pour émettre des particules chargées, un système optique et un étage ; l'étage étant configuré pour supporter un échantillon et configuré pour déplacer l'échantillon d'une première distance dans une première direction ; le système optique étant configuré pour former des points de sonde sur l'échantillon avec les particules chargées ; le système optique étant configuré pour déplacer les points de sonde de la première distance dans la première direction et d'une seconde distance dans une seconde direction, simultanément, tandis que l'étage déplace l'échantillon de la première distance dans la première direction ; le système optique étant configuré pour déplacer les points de sonde de la première distance inférieure à une largeur d'un des points de sonde dans une direction opposée à la première direction, après que l'étage déplace l'échantillon de la première distance dans la première direction.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)