Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019048215) PROCÉDÉ DE MESURE D'UN PARAMÈTRE ET APPAREIL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/048215 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/072301
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 17.08.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
DEN BOEF, Arie, Jeffrey; NL
HUISMAN, Simon, Reinald; NL
Mandataire :
BROEKEN, Petrus; NL
Données relatives à la priorité :
17189918.007.09.2017EP
Titre (EN) A METHOD OF MEASURING A PARAMETER AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE D'UN PARAMÈTRE ET APPAREIL
Abrégé :
(EN) A method of determining a parameter of a patterning process applied to an object comprising two features (for example an overlay of the two features) comprises: irradiating the two features of the object with a radiation beam and receiving at least a portion of the radiation beam scattered from the two features of the object. The at least a portion of the radiation beam comprises: a first portion comprising at least one diffraction order and a second portion comprising at least one diffraction order that is different to a diffraction order of the first portion. The method further comprises moderating a phase difference between the first and second portions and combining the first and second portions such that they interfere to produce a time dependent intensity signal. The method further comprises determining the parameter of the patterning process from a contrast of the time dependent intensity signal.
(FR) L'invention concerne un procédé de détermination d'un paramètre d'un processus de formation de motifs appliqué à un objet comprenant deux caractéristiques (par exemple une superposition des deux caractéristiques), lequel consiste à: irradier les deux caractéristiques de l'objet avec un faisceau de rayonnement et recevoir au moins une partie du faisceau de rayonnement diffusé à partir des deux caractéristiques de l'objet. Ladite au moins une partie du faisceau de rayonnement comprend : une première partie comprenant au moins un ordre de diffraction et une seconde partie comprenant au moins un ordre de diffraction qui est différent d'un ordre de diffraction de la première partie. Le procédé consiste en outre à modérer une différence de phase entre les première et seconde parties et à combiner les première et seconde parties de telle sorte qu'elles interfèrent pour produire un signal d'intensité dépendant du temps. Le procédé consiste en outre à déterminer le paramètre du processus de formation de motifs à partir d'un contraste du signal d'intensité dépendant du temps.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)