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1. (WO2019048200) SYSTÈME OPTIQUE CONÇU POUR UN DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION
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N° de publication : WO/2019/048200 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/072118
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 15.08.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs :
WINKLER, Alexander; DE
LENZ, Daniel; DE
ZIMMERMANN, Jörg; DE
Mandataire :
CARL ZEISS SMT GMBH; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 215 664.306.09.2017DE
Titre (EN) OPTICAL SYSTEM FOR A PROJECTION EXPOSURE SYSTEM
(FR) SYSTÈME OPTIQUE CONÇU POUR UN DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION
(DE) OPTISCHES SYSTEM FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
Abrégé :
(EN) The invention relates to an optical system for a projection exposure system, comprising an entrance pupil and/or an exit pupil, the entrance pupil and/or the exit pupil having an area A and a center point M and there being at least three regions in the entrance pupil and/or the exit pupil with r' > r(A), r' being the distance to the center point M and r(A) being the radius of a circle having the area A, and the at least three regions not being contiguous with each other.
(FR) L'invention concerne un système optique conçu pour un dispositif de lithographie par projection comprenant une pupille d'entrée et/ou une pupille de sortie, la pupille d'entrée et/ou la pupille de sortie présentant une superficie (A) et un centre (M), et la pupille d'entrée et/ou la pupille de sortie comportant au moins trois zones pour lesquelles r` > r (A) où r` représente la distance jusqu'au centre (M) et où r(A) représente le centre d'un cercle de superficie (A), ces trois zones m'étant pas continues.
(DE) Die Erfindung betrifft ein optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer Eintrittspupille und/oder einer Austrittspupille, wobei die Eintrittspupille und/oder die Austrittspupille einen Flächeninhalt A und einen Mittelpunkt M aufweist und es mindestens drei Bereiche in der Eintrittspupille und/oder der Austrittspupille mit r` > r (A) gibt, wobei r` der Abstand zum Mittelpunkt M ist und wobei r(A) der Radius eines Kreises mit dem Flächeninhalt A ist, und die mindestens drei Bereiche untereinander nicht zusammenhängend sind.
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)