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1. (WO2019048191) SYSTÈME OPTIQUE, DISPOSITIF OPTIQUE ET INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE
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N° de publication : WO/2019/048191 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/071944
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 13.08.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 17/06 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
17
Systèmes avec surfaces réfléchissantes, avec ou sans éléments de réfraction
02
Systèmes catoptriques, p.ex. systèmes redressant et renversant une image
06
utilisant uniquement des miroirs
Déposants :
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs :
DEUFEL, Peter; DE
XALTER, Stefan; DE
KULITZKI, Viktor; DE
Mandataire :
HORN KLEIMANN WAITZHOFER PATENTANWÄLTE PARTG MBB; Ganghoferstr. 29a 80339 München, DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 215 544.205.09.2017DE
Titre (EN) OPTICAL SYSTEM, OPTICAL ASSEMBLY, AND LITHOGRAPHY UNIT
(FR) SYSTÈME OPTIQUE, DISPOSITIF OPTIQUE ET INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE
(DE) OPTISCHES SYSTEM, OPTISCHE ANORDNUNG UND LITHOGRAPHIEANLAGE
Abrégé :
(EN) The invention relates to an optical system (200) for a lithography unit (100A, 100B), having: a first mirror (202); a second mirror (206) which, together with the first mirror (202), defines a beam path (204) and also has a hole (208), the optical system (200) being designed such that working light (210) falls through the hole (208) onto the first mirror (202), working light (210) being reflectable from the first mirror (202) onto the second mirror (206) and from the second mirror (206) to a target object (212); an obscuring diaphragm (222) which is situated in the beam path (204) between the first mirror (202) and the second mirror (206); and an aperture diaphragm (224) which has a first aperture diaphragm segment (226) and a second aperture diaphragm segment (228). The first aperture diaphragm segment (226) is designed to partially shadow working light (210) which is reflectable from the first mirror (202) to the second mirror (206), and the second aperture diaphragm segment (228) is designed to partially shadow working light (210) which is reflectable from the second mirror (206) to the target object (212). The first aperture diaphragm segment (226) and the second aperture diaphragm segment (228) are spaced from each other in the direction (R1) from the first mirror (202) to the second mirror (206).
(FR) L’invention concerne un système optique (200) pour une installation de lithographie (100A, 100B), comprenant un premier miroir (202), un deuxième miroir (206) qui définit un chemin optique (204) avec le premier miroir (202) et qui comprend en outre une percée (208), le système optique (200) étant configuré pour que de la lumière de travail (210) tombe à travers la percée (208) sur le premier miroir (202), la lumière de travail (210) étant réfléchie par le premier miroir (202) vers le deuxième miroir (206) et par le deuxième miroir (206) vers un objet cible (212), un diaphragme d’obscuration (222), lequel est disposé sur le chemin optique (204) entre le premier miroir (202) et le deuxième miroir (206), et un diaphragme d’ouverture (224), lequel comprend un premier segment de diaphragme d’ouverture (226) et un deuxième segment de diaphragme d’ouverture (228), le premier segment de diaphragme d’ouverture (226) étant configuré pour ombrer sur au moins une partie de la circonférence de la lumière de travail (210) qui est réfléchie par le premier miroir (202) vers le deuxième miroir (206) et le deuxième segment de diaphragme d’ouverture (228) etant configuré pour ombrer sur au moins une partie de la circonférence de la lumière de travail (210) qui est réfléchie par le deuxième miroir (206) vers l’objet cible (212), le premier segment de diaphragme d’ouverture (226) et le deuxième segment de diaphragme d’ouverture (228) étant espacés l’un de l’autre dans une direction (R1) du premier miroir (202) vers le deuxième miroir (206).
(DE) Offenbart wird ein optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), mit einem ersten Spiegel (202), einem zweiten Spiegel (206), der einen Strahlengang (204) zusammen mit dem ersten Spiegel (202) definiert und ferner einen Durchbruch (208) aufweist, wobei das optische System (200) dazu eingerichtet ist, dass Arbeitslicht (210) durch den Durchbruch (208) auf den ersten Spiegel (202) fällt, wobei Arbeitslicht (210) von dem ersten Spiegel (202) auf den zweiten Spiegel (206) und von dem zweiten Spiegel (206) zu einem Zielobjekt (212) reflektierbar ist, einer Obskurationsblende (222), welche innerhalb des Strahlengangs (204) zwischen dem ersten Spiegel (202) und dem zweiten Spiegel (206) angeordnet ist, und einer Aperturblende (224), welche ein erstes Aperturblendensegment (226) und ein zweites Aperturblendensegment (228) aufweist, wobei das erste Aperturblendensegment (226) dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht (210), das von dem ersten Spiegel (202) zu dem zweiten Spiegel (206) reflektierbar ist, und das zweite Aperturblendensegment (228) dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht (210), das von dem zweiten Spiegel (206) zu dem Zielobjekt (212) reflektierbar ist, abzuschatten, wobei das erste Aperturblendensegment (226) und das zweite Aperturblendensegment (228) in Richtung (R1) von dem ersten Spiegel (202) zu dem zweiten Spiegel (206) beabstandet voneinander sind.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)