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1. (WO2019048147) PROCÉDÉS ET DISPOSITIFS DE FORMATION DE MOTIFS ET APPAREILS PERMETTANT DE MESURER LES PERFORMANCES DE MISE AU POINT D’UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
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N° de publication : WO/2019/048147 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/071103
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 03.08.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 1/24 (2012.01) ,G21K 1/06 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
22
Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p.ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]; Leur préparation
24
Masques en réflexion; Leur préparation
G PHYSIQUE
21
PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
K
TECHNIQUES NON PRÉVUES AILLEURS POUR MANIPULER DES PARTICULES OU DES RAYONNEMENTS IONISANTS; DISPOSITIFS D'IRRADIATION; MICROSCOPES À RAYONS GAMMA OU À RAYONS X
1
Dispositions pour manipuler des particules ou des rayonnements ionisants, p.ex. pour focaliser ou pour modérer
06
utilisant la diffraction, la réfraction ou la réflexion, p.ex. monochromateurs
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
DE WINTER, Laurentius, Cornelius; NL
STOLK, Roland, Pieter; NL
STAALS, Frank; NL
VAN OOSTEN, Anton, Bernhard; NL
HINNEN, Paul, Christiaan; NL
JOCHEMSEN, Marinus; NL
THEEUWES, Thomas; NL
VAN SETTEN, Eelco; NL
Mandataire :
WILLEKENS, Jeroen, Pieter, Frank; NL
Données relatives à la priorité :
17190433.711.09.2017EP
18160202.006.03.2018EP
18183603.216.07.2018EP
Titre (EN) METHODS AND PATTERNING DEVICES AND APPARATUSES FOR MEASURING FOCUS PERFORMANCE OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉS ET DISPOSITIFS DE FORMATION DE MOTIFS ET APPAREILS PERMETTANT DE MESURER LES PERFORMANCES DE MISE AU POINT D’UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé :
(EN) Disclosed is a method of measuring focus performance of a lithographic apparatus, and corresponding patterning device and lithographic apparatus. The method comprises using the lithographic apparatus to print one or more first printed structures and second printed structures. The first printed structures are printed by illumination having a first non-telecentricity and the second printed structures being printed by illumination having a second non-telecentricity, different to said first non-telecentricity. A focus dependent parameter related to a focus- dependent positional shift between the first printed structures and the second printed structures on said substrate is measured and a measurement of focus performance based at least in part on the focus dependent parameter is derived therefrom.
(FR) La présente invention concerne un procédé permettant de mesurer les performances de mise au point d'un appareil lithographique, un dispositif de formations de motifs et un appareil lithographique associés. Le procédé consiste à utiliser l'appareil lithographique pour imprimer une ou plusieurs premières et secondes structures imprimées. Les premières structures imprimées sont imprimées par un éclairage ayant une première non-télécentricité et les secondes structures imprimées sont imprimées par un éclairage ayant une seconde non-télécentricité différente de ladite première non-télécentricité. Un paramètre dépendant de la mise au point associé à un décalage de position dépendant de la mise au point et ayant lieu sur ledit substrat entre les premières structures imprimées et les secondes structures imprimées est mesuré, et une mesure des performances de mise au point basée au moins en partie sur le paramètre dépendant de la mise au point est dérivée de celui-ci.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)