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1. (WO2019045780) RÉGLAGE RAPIDE DE PARAMÈTRES DE MESURE DE MÉTROLOGIE EN FONCTION D'UNE VARIATION DE PROCESSUS
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N° de publication : WO/2019/045780 N° de la demande internationale : PCT/US2018/026157
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 05.04.2018
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
Déposants :
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs :
PELED, Einat; IL
AMIT, Eran; IL
SVIZHER, Alexander; IL
LAMHOT, Yuval; IL
SELLA, Noga; IL
CHENG, Wei-Te Aaron; TW
Mandataire :
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M. N.; US
Données relatives à la priorité :
62/552,36630.08.2017US
62/591,10127.11.2017US
Titre (EN) QUICK ADJUSTMENT OF METROLOGY MEASUREMENT PARAMETERS ACCORDING TO PROCESS VARIATION
(FR) RÉGLAGE RAPIDE DE PARAMÈTRES DE MESURE DE MÉTROLOGIE EN FONCTION D'UNE VARIATION DE PROCESSUS
Abrégé :
(EN) Methods applicable in metrology modules and tools are provided, which enable adjusting metrology measurement parameters with respect to process variation, without re-initiating metrology recipe setup. Methods comprise, during an initial metrology recipe setup, recording a metrology process window and deriving baseline information therefrom, and during operation, quantifying the process variation with respect to the baseline information, and adjusting the metrology measurement parameters within the metrology process window with respect to the quantified process variation. The quick adjustment of metrology parameters avoids metrology-related process delays and releases prior art bottlenecks related thereto. Models of effects of various process variation factors on the metrology measurements may be used to enhance the derivation of required metrology tuning and enable their application with minimal delays to the production process.
(FR) L'invention concerne des procédés applicables dans des modules et des outils de métrologie, qui permettent d'ajuster des paramètres de mesure de métrologie par rapport à une variation de processus, sans réinitialisation de la configuration de recette métrologique. Les procédés comprennent, pendant une configuration de recette métrologique initiale, l'enregistrement d'une fenêtre de processus de métrologie et la déduction d'informations de base à partir de celle-ci, et pendant le fonctionnement, la quantification de la variation de processus par rapport aux informations de base, et le réglage des paramètres de mesure de métrologie à l'intérieur de la fenêtre de processus de métrologie par rapport à la variation de processus quantifiée. Le réglage rapide de paramètres de métrologie permet d'éviter des retards de processus liés à la métrologie et libère des goulots d'étranglement de l'état de la technique qui y sont liés. Des modèles d'effets de divers facteurs de variation de processus sur les mesures de métrologie peuvent être utilisés pour améliorer la déduction du réglage de métrologie requis et permettre leur application en minimisant les retards dans le processus de production.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)