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1. (WO2019045487) APPAREIL DE TRAITEMENT DE FLUIDE
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N° de publication : WO/2019/045487 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/010064
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 30.08.2018
CIB :
C02F 1/32 (2006.01) ,A61L 9/20 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
02
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
F
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1
Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
30
par irradiation
32
par la lumière ultraviolette
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
L
PROCÉDÉS OU APPAREILS POUR STÉRILISER DES MATÉRIAUX OU DES OBJETS EN GÉNÉRAL; DÉSINFECTION, STÉRILISATION OU DÉSODORISATION DE L'AIR; ASPECTS CHIMIQUES DES BANDAGES, DES PANSEMENTS, DES GARNITURES ABSORBANTES OU DES ARTICLES CHIRURGICAUX; MATÉRIAUX POUR BANDAGES, PANSEMENTS, GARNITURES ABSORBANTES OU ARTICLES CHIRURGICAUX
9
Désinfection, stérilisation ou désodorisation de l'air
16
utilisant des phénomènes physiques
18
des radiations
20
des ultraviolets
Déposants :
서울바이오시스 주식회사 SEOUL VIOSYS CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 안산시 단원구 산단로163번길 65-16, 1블럭 36호 1B-36, 65-16, Sandan-ro 163beon-gil, Danwon-gu Ansan-si Gyeonggi-do 15429, KR
Inventeurs :
최재영 CHOI, Jae Young; KR
한규원 HAN, Kyu Won; KR
윤여진 YOON, Yeo Jin; KR
정웅기 JEONG, Woong Ki; KR
Mandataire :
이기성 LEE, Ki Sung; KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-011057631.08.2017KR
Titre (EN) FLUID PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE FLUIDE
(KO) 유체 처리 장치
Abrégé :
(EN) A fluid processing apparatus comprises: a pipe having an inlet and an outlet and having an inner space through which a fluid moves; and a light source section provided in the inner space and providing light to the fluid. The light source section comprises: a substrate; and at least one light source unit provided on the substrate and having a plurality of light sources for emitting the light wherein when viewing a longitudinal section thereof, the ratio of a first distance between two adjacent light sources and a second distance from each light source to the inner circumferential surface of the pipe is less than or equal to 1:1.25.
(FR) Un appareil de traitement de fluide comprend : un tuyau possédant une entrée et une sortie ainsi qu'un espace interne à travers lequel un fluide se déplace; et une section de source lumineuse disposée dans l'espace interne et pour fournir de la lumière au fluide. La section de source lumineuse comprend : un substrat; et au moins une unité de source lumineuse disposée sur le substrat et comportant une pluralité de sources lumineuses pour émettre de la lumière lors de l'observation d'une de ses sections longitudinales, le rapport d'une première distance entre deux sources lumineuses adjacentes et une seconde distance entre chaque source lumineuse et la surface circonférentielle interne du tuyau est inférieur ou égal à 1:1,25.
(KO) 유체 처리 장치는 유입구와 배출구를 가지며 유체가 이동하는 내부 공간을 갖는 배관, 및 상기 내부 공간에 제공되며 상기 유체에 광을 제공하는 광원부를 포함한다. 상기 광원부는, 기판, 및 상기 기판 상에 제공되어 상기 광을 출사하는 복수 개의 광원들을 갖는 적어도 하나의 광원 유닛을 포함하고, 종단면 상에서 볼 때, 서로 인접한 두 광원 사이의 제1 거리와, 각 광원으로부터 상기 배관의 내주면까지의 제2 거리의 비는 1 : 1.25 이하이다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)