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1. (WO2019045377) GÉNÉRATEUR PHOTOACIDE MULTIFONCTIONNEL ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE LE COMPRENANT POUR USAGE AVEC FILM ÉPAIS
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N° de publication : WO/2019/045377 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/009822
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 24.08.2018
CIB :
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,C07D 221/14 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
039
Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
221
Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons ne comportant qu'un atome d'azote comme unique hétéro-atome du cycle, non prévus par les groupes C07D211/-C07D219/210
02
condensés avec des carbocycles ou avec des systèmes carbocycliques
04
Systèmes cycliques condensés en ortho ou en péri
06
Systèmes cycliques à trois cycles
14
Aza-phénalènes, p.ex. naphtalimide-1, 8
Déposants :
주식회사 엘지화학 LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 서울시 영등포구 여의대로 128 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-Gu, Seoul 07336, KR
Inventeurs :
임민영 LIM, Min Young; KR
이태섭 LEE, Tae Seob; KR
박현민 PARK, Hyun Min; KR
Mandataire :
유미특허법인 YOU ME PATENT AND LAW FIRM; 서울시 강남구 테헤란로 115 115 Teheran-ro Gangnam-gu Seoul 06134, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-011269004.09.2017KR
Titre (EN) MULTIFUNCTIONAL PHOTO-ACID GENERATOR AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME FOR THICK FILM
(FR) GÉNÉRATEUR PHOTOACIDE MULTIFONCTIONNEL ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE LE COMPRENANT POUR USAGE AVEC FILM ÉPAIS
(KO) 다기능성 광산발생제 및 이를 포함하는 후막용 포토레지스트 조성물
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a photo-acid generator and a chemical amplification type photoresist composition comprising the same for a thick film, wherein the photo-acid generator has, besides effects as a photo-acid generator, remarkable solubility and sensitivity as well as an excellent anti-corrosive effect. Therefore, the chemical amplification type photoresist composition comprising the photo-acid generator for a thick film has an effect of reducing scum and/or footing on an exposure unit after development.
(FR) La présente invention concerne un générateur photoacide et une composition de résine photosensible de type à amplification chimique le comprenant un film épais. Outre les effets de générateur photo-acide, le générateur photoacide possède une solubilité et une sensibilité remarquables ainsi qu'un excellent effet anticorrosion. Par conséquent, la composition de résine photosensible de type à amplification chimique comprenant le générateur photoacide pour un film épais a pour effet de réduire la crasse et/ou les résidus sur une unité d'exposition après le développement.
(KO) 본 발명은 광산발생제 및 이를 포함하는 후막용 화학증폭형 포토레지스트 조성물에 관한 것으로서, 상기 광산발생제는 광산발생제로서의 효과 이외에, 용해도 및 감도가 우수하며, 뛰어난 부식방지 효과 또한 존재한다. 따라서, 상기 광산발생제를 포함하는 후막용 막용 화학증폭형 포토레지스트 조성물은 현상 후 노광부에 스컴 (scum) 및 /또는 풋팅 (footing)이 줄어드는 효과가 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)