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1. (WO2019045340) MOYEN DE PLACEMENT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
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N° de publication : WO/2019/045340 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/009507
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 20.08.2018
CIB :
H01L 21/687 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,H01L 21/683 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683
pour le maintien ou la préhension
687
en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683
pour le maintien ou la préhension
Déposants :
주성엔지니어링(주) JUSUNG ENGINEERING CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 광주시 오포읍 오포로 240 240, Opo-ro, Opo-eup Gwangju-si Gyeonggi-do 12773, KR
Inventeurs :
김종식 KIM, Jong Sik; KR
신현욱 SHIN, Hyun Wook; KR
이수연 LEE, Su Yeon; KR
Mandataire :
특허법인 천문 ASTRAN INT'L IP GROUP; 서울시 강남구 역삼로 233, 5층 (역삼동, 신성빌딩) (ShinSung Building, Yeoksam-dong) 5th Floor, 233, Yeoksam-ro, Gangnam-gu Seoul 06225, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-011038030.08.2017KR
10-2018-005266508.05.2018KR
Titre (EN) SUBSTRATE PLACING MEANS AND SUBSTRATE TREATING DEVICE
(FR) MOYEN DE PLACEMENT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(KO) 기판안치수단 및 기판처리장치
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a substrate placing means and a substrate treating device, the substrate placing means comprising: a disk; and a plurality of substrate placing units radially disposed around the center of the disk, and having substrates respectively placed therein, wherein upper surfaces of the substrate placing units protrude further upwardly than an upper surface of the disk.
(FR) La présente invention concerne un moyen de placement de substrat et un dispositif de traitement de substrat, le moyen de placement de substrat comprenant : un disque ; et une pluralité d'unités de placement de substrat disposées radialement autour du centre du disque, et ayant des substrats respectivement placés à l'intérieur, les surfaces supérieures des unités de placement de substrat faisant saillie davantage vers le haut qu'une surface supérieure du disque.
(KO) 본 발명은 기판처리장치의 기판안치수단으로서, 디스크; 및 상기 디스크의 중심에서 방사상으로 배치되며, 기판이 각각 안치되는 복수개의 기판안치부를 포함하되, 상기 기판안치부의 상면은 상기 디스크의 상면보다 상측으로 더 돌출된 기판안치수단 및 기판처리장치에 관한 것이다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Coréen (KO)
Langue de dépôt : Coréen (KO)