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1. (WO2019045235) REVÊTEMENT DUR AYANT UNE EXCELLENTE RÉSISTANCE À L'ABRASION ET UNE EXCELLENTE TÉNACITÉ
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N° de publication : WO/2019/045235 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/006778
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 15.06.2018
CIB :
C23C 14/06 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
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REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
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Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
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caractérisé par le matériau de revêtement
Déposants :
한국야금 주식회사 KORLOY INC. [KR/KR]; 서울시 금천구 남부순환로 1350 1350, Nambusunhwan-ro Geumcheon-gu Seoul 08536, KR
Inventeurs :
박제훈 PAKR, Je-hun; KR
안승수 AHN, Seung-su; KR
박성모 PARK, Seong-mo; KR
권진한 GWON, Jin-han; KR
김경일 KIM, Kyoung-il; KR
김범식 KIM, Beom-sik; KR
안선용 AHN, Sun-yong; KR
Mandataire :
특허법인 아이엠 IAM PATENT FIRM; 서울시 강남구 봉은사로224, 403호 403, 224, Bongeunsa-ro, Gangnam-gu, Seoul 06135, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-011161101.09.2017KR
Titre (EN) HARD COATING HAVING EXCELLENT ABRASION RESISTANCE AND TOUGHNESS
(FR) REVÊTEMENT DUR AYANT UNE EXCELLENTE RÉSISTANCE À L'ABRASION ET UNE EXCELLENTE TÉNACITÉ
(KO) 내마모성과 인성이 우수한 경질피막
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide a hard coating having improved abrasion resistance and toughness, formed by a PVD method, and comprising a first hard layer and a second layer, wherein: the first hard layer has a thickness of 0.1-3.0 μm, is made of Til-aAlaN (0.3≤a≤0.7) and has a single phase structure; the second hard layer has a thickness of 0.5-10 μm and is made of Til-a-bAlaMebN (0.3≤a≤0.7, 0≤b≤0.05; Me is one or more selected from V, Zr, Si, Nb, Cr, Mo, Hf, Ta and W); the ratio ([200]/[111]) of the intensity of [200] peak to the intensity of [111] peak is 1.5 or more in XRD phase analysis and preferred growth occurs in the direction [200]; the [200] peak is located at 42.7-44.6°and is simultaneously composed of three phases; the [111] peak is located at 37.0-38.5° and is simultaneously composed of three phases; and, when a peak having the highest intensity among peaks relating to the three phases is a main peak and the remaining peaks are side peaks, the ratio (main peak/side peaks) of the intensity of the main peak to the intensity of the side peaks, of the [200] plane, is 2 or more and the ratio (main peak/side peaks) of the intensity of the main peak to the intensity of the side peaks, of the [111] plane, is 2 or more.
(FR) Le but de la présente invention est de fournir un revêtement dur ayant une résistance à l'abrasion et une ténacité améliorées, formé par un procédé de dépôt physique en phase vapeur (PVD), et comprenant une première couche dure et une seconde couche : la première couche dure a une épaisseur de 0,1 à 3,0 µm, est faite de Til-aAlaN (0,3 ≤ a ≤ 0,7) et a une structure à phase unique ; la seconde couche dure a une épaisseur de 0,5 à 10 µm et est constituée de Til-a-bAlaMebN (0,3 ≤ a ≤0,7, 0 ≤ b ≤ 0,05) ; Me est un ou plusieurs éléments choisis parmi V, Zr, Si, Nb, Cr, Mo, Hf, Ta et W) ; le rapport ([200]/[111]) de l'intensité du pic [200] à l'intensité du pic [111] est supérieur ou égal à 1,5 dans l'analyse de phase XRD et la croissance préférée se produit dans la direction [200] ; le pic [200] est situé à 42,7-44,6° et est simultanément composé de trois phases ; le pic [111] est situé à 37,0-38,5° et est simultanément composé de trois phases ; et, lorsqu'un pic ayant l'intensité la plus élevée parmi les pics concernant les trois phases est un pic principal et les pics restants sont des pics secondaires, le rapport (pic principal/pics secondaires) de l'intensité du pic principal à l'intensité des pics secondaires, du plan [200], est de 2 ou plus et le rapport (pic principal/pics secondaires) de l'intensité du pic principal à l'intensité des pics secondaires, du plan [111], est de 2 ou plus.
(KO) 본 발명은 내마모성과 인성을 향상시킨 경질 피막을 제공하기 위한 것으로, PVD법으로 형성되며, 제1 경질층과 제2 경질층을 포함하고, 상기 제1 경질층은 두께가 0.1~3.0㎛이고, Til-aAlaN (0.3≤a≤0.7)으로 이루어지며, 단상 구조를 가지고, 상기 제2 경질층은 두께가 0.5~10㎛이고, Til-a-bAlaMebN (0.3≤a≤0.7, 0≤b≤0.05, 상기 Me는 V, Zr, Si, Nb, Cr, Mo, Hf, Ta, W 중에서 선택된 1종 이상)으로 이루어지고, XRD 상분석법에 의할 때, [111] 피크의 강도에 대한 [200] 피크의 강도의 비([200]/[111])가 1.5 이상으로 [200] 방향으로 우선성장하고, 상기 [200] 피크는 42.7°~ 44.6°에 위치함과 동시에 3개의 상으로 이루어지고, 상기 [111] 피크는 37.0°~ 38.5°에 위치함과 동시에 3개의 상으로 이루어지며, 상기 3개의 상에 관한 피크 중에서 강도가 가장 큰 피크를 주 피크라고 하고 나머지를 보조 피크라고 할 때, [200]면의 보조 피크의 강도에 대한 주 피크의 강도의 비(주 피크/보조 피크)는 2 이상이고, [111]면의 보조 피크의 강도에 대한 주 피크의 강도의 비(주 피크/보조 피크)는 2 이상인 것을 특징으로 한다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)