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1. (WO2019044929) SILICE SOL-GEL TRAITÉE EN SURFACE ET PROCÉDÉ POUR SA PRODUCTION
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N° de publication : WO/2019/044929 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/032023
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 29.08.2018
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 25.01.2019
CIB :
C01B 33/18 (2006.01) ,C08K 3/36 (2006.01) ,C08K 9/04 (2006.01) ,C08L 101/00 (2006.01) ,C09C 1/28 (2006.01) ,C09C 3/08 (2006.01) ,C09C 3/10 (2006.01) ,H01L 23/29 (2006.01) ,H01L 23/31 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33
Silicium; Ses composés
113
Oxydes de silicium; Leurs hydrates
12
Silice; Ses hydrates, p.ex. acide silicique lépidoïque
18
Préparation de silice finement divisée ni sous forme de sol ni sous forme de gel; Post-traitement de cette silice
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
K
EMPLOI COMME ADJUVANTS DE SUBSTANCES NON MACROMOLÉCULAIRES INORGANIQUES OU ORGANIQUES
3
Emploi d'ingrédients inorganiques
34
Composés contenant du silicium
36
Silice
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
K
EMPLOI COMME ADJUVANTS DE SUBSTANCES NON MACROMOLÉCULAIRES INORGANIQUES OU ORGANIQUES
9
Emploi d'ingrédients prétraités
04
Ingrédients traités par des substances organiques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
101
Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
C
TRAITEMENT DE SUBSTANCES INORGANIQUES, AUTRES QUE DES CHARGES FIBREUSES, POUR AMÉLIORER LEURS PROPRIÉTÉS DE PIGMENTATION OU DE CHARGE; PRÉPARATION DU NOIR DE CARBONE
1
Traitement de substances inorganiques particulières, autres que des charges fibreuses; Préparation du noir de carbone
28
Composés du silicium
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
C
TRAITEMENT DE SUBSTANCES INORGANIQUES, AUTRES QUE DES CHARGES FIBREUSES, POUR AMÉLIORER LEURS PROPRIÉTÉS DE PIGMENTATION OU DE CHARGE; PRÉPARATION DU NOIR DE CARBONE
3
Traitement, en général, de substances inorganiques, autres que des charges fibreuses, pour améliorer leurs propriétés de pigmentation ou de charge
08
Traitement par des composés organiques de bas poids moléculaire
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
C
TRAITEMENT DE SUBSTANCES INORGANIQUES, AUTRES QUE DES CHARGES FIBREUSES, POUR AMÉLIORER LEURS PROPRIÉTÉS DE PIGMENTATION OU DE CHARGE; PRÉPARATION DU NOIR DE CARBONE
3
Traitement, en général, de substances inorganiques, autres que des charges fibreuses, pour améliorer leurs propriétés de pigmentation ou de charge
10
Traitement par des composés organiques macromoléculaires
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
23
Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
28
Capsulations, p.ex. couches de capsulation, revêtements
29
caractérisées par le matériau
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
23
Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
28
Capsulations, p.ex. couches de capsulation, revêtements
31
caractérisées par leur disposition
Déposants :
株式会社トクヤマ TOKUYAMA CORPORATION [JP/JP]; 山口県周南市御影町1番1号 1-1, Mikage-cho, Shunan-shi Yamaguchi 7458648, JP
Inventeurs :
藤岡 宏昌 FUJIOKA Hiromasa; JP
田中 修 TANAKA Osamu; JP
平 浩昭 TAIRA Hiroaki; JP
三上 直樹 MIKAMI Naoki; JP
大谷 俊明 OOTANI Toshiaki; JP
Mandataire :
特許業務法人前田特許事務所 MAEDA & PARTNERS; 大阪府大阪市北区堂島浜1丁目2番1号 新ダイビル23階 Shin-Daibiru Bldg. 23F, 2-1, Dojimahama 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300004, JP
Données relatives à la priorité :
2017-16642231.08.2017JP
Titre (EN) SURFACE-TREATED SOL-GEL SILICA AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) SILICE SOL-GEL TRAITÉE EN SURFACE ET PROCÉDÉ POUR SA PRODUCTION
(JA) 表面処理ゾルゲルシリカ及びその製造方法
Abrégé :
(EN) This surface-treated sol-gel silica is characterized by comprising sol-gel silica having an average particle diameter of 0.05-2.0 μm by laser diffraction scattering, and a surface treatment agent on the sol-gel silica surface, the particle content for particles having a particle diameter of 5 μm or greater being 10 ppm or less on a numerical basis in the grain size distribution obtained by a Coulter counter in a dispersion obtained by dispersing a quantity of 5% by mass in ethanol by ultrasonic waves at an output of 40 W and an irradiation time of 10 minutes.
(FR) Cette silice sol-gel traitée en surface est caractérisée en ce qu'elle comprend de la silice sol-gel présentant un diamètre moyen de particule de 0,05-2,0 µm, déterminé par diffusion de diffraction laser, et un agent de traitement de surface sur la surface de silice sol-gel, la teneur en particules pour des particules présentant un diamètre de particule de 5 µm ou plus étant de 10 ppm ou moins sur une base numérique dans la distribution de grosseurs de grain obtenue par un compteur Coulter dans une dispersion obtenue par dispersion d'une quantité de 5 % en masse dans de l'éthanol par des ondes ultrasonores à une sortie de 40 W et un temps d'irradiation de 10 minutes.
(JA) 本発明の表面処理ゾルゲルシリカは、レーザー回折散乱法による平均粒子径が0.05μm以上2.0μm以下であるゾルゲルシリカと、前記ソルゲルシリカ表面に表面処理剤とを備え、エタノールの中に5質量%の量を、出力40W、照射時間10分という条件により超音波により分散させた分散液において、コールターカウンター法により得られた粒度分布では、粒子径が5μm以上である粒子の含有量が個数基準で10ppm以下であることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)