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1. (WO2019044917) DISPOSITIF D’ANALYSE DE CONCENTRATION DE CHLORE, PROCÉDÉ D’ANALYSE DE CONCENTRATION DE CHLORE, DISPOSITIF DE PRODUCTION DE TÉTRACHLORURE DE TITANE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’ÉPONGE DE TITANE
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N° de publication : WO/2019/044917 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/031991
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 29.08.2018
CIB :
G01N 21/33 (2006.01) ,C01G 23/02 (2006.01) ,C22B 34/12 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
17
Systèmes dans lesquels la lumière incidente est modifiée suivant les propriétés du matériau examiné
25
Couleur; Propriétés spectrales, c. à d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes
31
en recherchant l'effet relatif du matériau pour les longueurs d'ondes caractéristiques d'éléments ou de molécules spécifiques, p.ex. spectrométrie d'absorption atomique
33
en utilisant la lumière ultraviolette
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
G
COMPOSÉS CONTENANT DES MÉTAUX NON COUVERTS PAR LES SOUS-CLASSES C01D OU C01F104
23
Composés du titane
02
Halogénures de titane
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
22
MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
B
PRODUCTION OU AFFINAGE DES MÉTAUX; TRAITEMENT PRÉLIMINAIRE DES MATIÈRES PREMIÈRES
34
Obtention des métaux réfractaires
10
Obtention du titane, du zirconium ou du hafnium
12
Obtention du titane
Déposants :
東邦チタニウム株式会社 TOHO TITANIUM CO.,LTD. [JP/JP]; 神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎三丁目3番5号 3-5,Chigasaki 3-chome,Chigasaki-shi, Kanagawa 2538510, JP
Inventeurs :
山本 仁 YAMAMOTO,Masashi; JP
Mandataire :
アクシス国際特許業務法人 AXIS PATENT INTERNATIONAL; 東京都港区新橋二丁目6番2号 新橋アイマークビル Shimbashi i-mark Bldg., 6-2 Shimbashi 2-Chome, Minato-ku, Tokyo 1050004, JP
Données relatives à la priorité :
2017-16877201.09.2017JP
Titre (EN) DEVICE FOR ANALYZING CHLORINE CONCENTRATION, METHOD FOR ANALYZING CHLORINE CONCENTRATION, DEVICE FOR PRODUCING TITANIUM TETRACHLORIDE, AND METHOD FOR PRODUCING SPONGE TITANIUM
(FR) DISPOSITIF D’ANALYSE DE CONCENTRATION DE CHLORE, PROCÉDÉ D’ANALYSE DE CONCENTRATION DE CHLORE, DISPOSITIF DE PRODUCTION DE TÉTRACHLORURE DE TITANE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’ÉPONGE DE TITANE
(JA) 塩素濃度分析装置、塩素濃度分析方法、四塩化チタンの製造装置及びスポンジチタンの製造方法
Abrégé :
(EN) Provided is a device for analyzing chlorine concentration, comprising: a measurement cell 10 for housing chlorine-containing gas; a light-emitting unit 20 provided with a LED light source 21 for irradiating the chlorine-containing gas flowing through the measurement cell 10 with UV rays; a light-receiving unit 30 for receiving the UV rays transmitted through the measurement cell 10; and a calculation unit 50 for calculating the chlorine concentration in the chlorine-containing gas on the basis of an output signal from the light-receiving unit 30.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d’analyse de concentration de chlore, comprenant : une cellule de mesure 10 pour contenir un gaz contenant du chlore ; une unité d’émission de lumière 20 pourvue d’une source de lumière à LED 21 pour irradier le gaz contenant du chlore s’écoulant à travers la cellule de mesure 10 avec des rayons UV ; une unité de réception de lumière 30 pour recevoir les rayons UV transmis à travers la cellule de mesure 10 ; et une unité de calcul 50 pour calculer la concentration de chlore dans le gaz contenant du chlore sur la base d’un signal de sortie provenant de l’unité de réception de lumière 30.
(JA) 塩素含有ガスを収容する測定セル10と、測定セル10内を流れる塩素含有ガスに対し、紫外線を照射するLED光源21を備える発光部20と、測定セル10を透過した紫外線を受光する受光部30と、受光部30からの出力信号に基づいて塩素含有ガス中の塩素濃度を演算する演算部50とを備える塩素濃度分析装置である。
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)