Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019044784) COMPOSITION DE RÉSINE, OBJET MOULÉ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSITION DE RÉSINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/044784 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/031618
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 27.08.2018
CIB :
C08L 23/26 (2006.01) ,C08L 23/00 (2006.01) ,C08L 77/00 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
23
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères d'hydrocarbures aliphatiques non saturés ne possédant qu'une seule liaison double carbone-carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
26
modifiées par post-traitement chimique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
23
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères d'hydrocarbures aliphatiques non saturés ne possédant qu'une seule liaison double carbone-carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
77
Compositions contenant des polyamides obtenus par des réactions créant une liaison amide carboxylique dans la chaîne principale; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
Déposants :
三井・デュポンポリケミカル株式会社 DU PONT-MITSUI POLYCHEMICALS CO., LTD. [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目5番2号 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1057122, JP
Inventeurs :
中野 重則 NAKANO, Shigenori; JP
佐久間 雅巳 SAKUMA, Masami; JP
高岡 博樹 TAKAOKA, Hiroki; JP
Mandataire :
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
Données relatives à la priorité :
2017-16377028.08.2017JP
Titre (EN) RESIN COMPOSITION, MOLDED OBJECT, AND PRODUCTION METHOD FOR RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE, OBJET MOULÉ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSITION DE RÉSINE
(JA) 樹脂組成物、成形体及び樹脂組成物の製造方法
Abrégé :
(EN) A resin composition which comprises 36-75 mass% olefin-based polymer (B) and an ionomer resin including 25-64 mass% ethylene/unsaturated carboxylic acid copolymer (A), wherein the ionomer has been neutralized with metal ions to a degree of neutralization of 52% or higher (the sum of the unneutralized resin components contained in the resin composition is taken as 100 mass%); a molded object; and a method for producing the resin composition.
(FR) L'invention concerne une composition de résine qui comprend de 36 à 75 % en masse de polymère à base d'oléfine (B) et une résine ionomère comprenant de 25 à 64 % en masse de copolymère d'éthylène/acide carboxylique insaturé (A), l'ionomère ayant été neutralisé avec des ions métalliques à un degré de neutralisation de 52 % ou plus (la somme des constituants de résine non neutralisés contenus dans la composition de résine étant prise comme étant de 100 % en masse) ; un objet moulé ; et un procédé de production de la composition de résine.
(JA) エチレン・不飽和カルボン酸系共重合体(A)25質量%~64質量%のアイオノマー樹脂と、オレフィン系重合体(B)36質量%~75質量%と、を含有し、金属イオンで中和された前記アイオノマーの中和度は52%以上である(但し、樹脂組成物中の中和前の樹脂成分の合計を100質量%とする)樹脂組成物、成形体及び樹脂組成物の製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)