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1. (WO2019044566) PLAQUE ORIGINALE DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
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N° de publication : WO/2019/044566 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/030704
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 20.08.2018
CIB :
B41N 1/14 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/028 (2006.01) ,G03F 7/032 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
N
CLICHÉS OU PLAQUES D'IMPRESSION; MATÉRIAUX POUR SURFACES UTILISÉES DANS L'IMPRESSION POUR IMPRIMER, ENCRER, MOUILLER OU SIMILAIRE; PRÉPARATION DE TELLES SURFACES POUR LEUR EMPLOI OU LEUR CONSERVATION
1
Clichés ou plaques d'impression; Matériaux à cet effet
12
en une autre matière que la pierre ou le métal
14
Plaques d'impression lithographiques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
028
avec des substances accroissant la photosensibilité, p.ex. photo-initiateurs
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
032
avec des liants
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
荒木 健次郎 ARAKI, Kenjiro; JP
石川 静 ISHIKAWA, Shizuka; JP
村上 平 MURAKAMI, Taira; JP
Mandataire :
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
Données relatives à la priorité :
2017-16743431.08.2017JP
Titre (EN) LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE ORIGINAL PLATE, METHOD FOR FABRICATING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND LITHOGRAPHIC PRINTING METHOD
(FR) PLAQUE ORIGINALE DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
(JA) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷方法
Abrégé :
(EN) A lithographic printing plate original plate, a method for manufacturing the same, and a lithographic printing method using the lithographic printing plate original plate, lithographic printing plate original plate having an image recording layer as the outermost surface layer thereof on a support, the image recording layer including a hydrophilic polymer, cutting by an Ar gas cluster ion beam method being performed toward the support from the surface of the image recording layer, the ion intensity derived from the hydrophilic polymer as measured by time-of-flight secondary ion mass spectrometry having a maximum value of I1, the ratio d0/d1 of the thickness d0 of the image recording layer to the depth d1 from the outermost layer at which the value I1 is obtained being 2.0 or greater, and the ratio I1/I0 of the value I1 to the ion intensity I0 derived from the hydrophilic polymer at the depth d0 from the outermost layer being 1.5 or greater.
(FR) L'invention concerne une plaque originale de plaque d'impression lithographique, son procédé de fabrication, et un procédé d'impression lithographique mettant en œuvre la plaque originale de plaque d'impression lithographique. La plaque originale de plaque d'impression lithographique comporte une couche d'impression d'image en tant que couche de surface la plus externe sur un support, la couche d'impression d'image comprenant un polymère hydrophile ; la découpe au moyen d'un procédé par faisceau ionique d’amas gazeux Ar est effectuée vers le support à partir de la surface de la couche d'impression d'image, l'intensité ionique dérivée du polymère hydrophile telle que mesurée par spectrométrie de masse d'ions secondaires à temps de vol ayant une valeur maximale d'I1, le rapport d0/d1 entre l'épaisseur d0 de la couche d'impression d'image et la profondeur d1 à partir de la couche la plus externe au niveau de laquelle la valeur I1 est obtenue étant supérieur ou égal à 2,0, et le rapport I1/I0 entre la valeur I1 et l'intensité ionique I0 dérivée du polymère hydrophile à la profondeur d0 de la couche la plus externe étant supérieur ou égal à 1,5.
(JA) 支持体上に、最表面層として画像記録層を有し上記画像記録層が、親水性ポリマーを含み、画像記録層表面から支持体方向にArガスクラスターイオンビーム法により切削を行い、飛行時間型二次イオン質量分析法により測定された上記親水性ポリマーに由来するイオン強度が、最大値I1を有し、上記I1が得られる最外層からの深さd1に対する、画像記録層の厚さd0の比d0/d1が、2.0以上であり、最外層からの深さが上記d0における上記親水性ポリマーに由来するイオン強度I0に対する、上記I1の比I1/I0が、1.5以上である平版印刷版原版及びその製造方法並びに上記平版印刷版原版を用いた平版印刷方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)