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1. (WO2019044479) COMPOSÉ ÉTHER CONTENANT DU FLUOR, COMPOSITION D'ÉTHER CONTENANT DU FLUOR, SOLUTION DE REVÊTEMENT, ARTICLE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
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N° de publication : WO/2019/044479 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/030223
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 13.08.2018
CIB :
C08G 65/336 (2006.01) ,C09D 171/02 (2006.01) ,C09K 3/18 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
G
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
65
Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison éther dans la chaîne principale de la macromolécule
02
à partir d'éthers cycliques par ouverture d'un hétérocycle
32
Polymères modifiés par post-traitement chimique
329
avec des composés organiques
336
contenant du silicium
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
D
COMPOSITIONS DE REVÊTEMENT, p.ex. PEINTURES, VERNIS OU VERNIS-LAQUES; APPRÊTS EN PÂTE; PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLEVER LA PEINTURE OU L'ENCRE; ENCRES; CORRECTEURS LIQUIDES; COLORANTS POUR BOIS; PRODUITS SOLIDES OU PÂTEUX POUR COLORIAGE OU IMPRESSION; EMPLOI DE MATÉRIAUX À CET EFFET
171
Compositions de revêtement à base de polyéthers obtenus par des réactions créant une liaison éther dans la chaîne principale; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
02
Oxydes de polyalkylène
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
18
à appliquer sur des surfaces pour y minimiser l'adhérence de la glace, du brouillard ou de l'eau; Substances antigel ou provoquant le dégel pour application sur des surfaces
Déposants :
AGC株式会社 AGC INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
Inventeurs :
宇野 誠人 UNO Makoto; JP
山本 弘賢 YAMAMOTO Hiromasa; JP
星野 泰輝 HOSHINO Taiki; JP
松浦 啓吾 MATSUURA Keigo; JP
安樂 英一郎 ANRAKU Eiichiro; JP
Mandataire :
泉名 謙治 SENMYO Kenji; JP
小川 利春 OGAWA Toshiharu; JP
金 鎭文 KIM Jin-Moon; JP
比企野 健 HIKINO Ken; JP
横井 大一郎 YOKOI Daiichiro; JP
Données relatives à la priorité :
2017-16799931.08.2017JP
Titre (EN) FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOSITION, COATING SOLUTION, ARTICLE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSÉ ÉTHER CONTENANT DU FLUOR, COMPOSITION D'ÉTHER CONTENANT DU FLUOR, SOLUTION DE REVÊTEMENT, ARTICLE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
(JA) 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法
Abrégé :
(EN) Provided are a fluorine-containing ether compound, a fluorine-containing ether composition, and a coating solution capable of forming a surface layer having excellent initial water and oil repellency, fingerprint removability, abrasion resistance, light resistance, and chemical resistance, as well as an article having the surface layer and a method for producing the same. A fluorine-containing ether compound represented by A-O-(Rf1O)m-Q1(R1)b. Where, A is a C1-20 perfluoroalkyl group, Rf1 is a perfluoroalkylene group, m is an integer of 2-500, (Rf1O)m may comprise Rf1O having two different numbers of carbon atoms, Q1 is a (b + 1)-valent perfluorohydrocarbon group optionally having a hydroxyl group, R1 is a monovalent organic group having at least one hydrolyzable silyl group, b is an integer of 2 or higher, and the b-number of R1 may be the same or different.
(FR) La présente invention concerne un composé éther contenant du fluor, une composition d'éther contenant du fluor, et une solution de revêtement apte à former une couche de surface excellente en termes de propriétés hydrofuges et oléofuges, d'aptitude à l'élimination d'empreintes digitales, de résistance à l'abrasion, de résistance à la lumière et de résistance chimique initiales, ainsi qu'un article comportant ladite couche de surface et un procédé de production associé. Un composé éther contenant du fluor est représenté par A-O-(Rf1O)m-Q1(R1)b. Dans la formule, A est un groupe perfluoroalkyle en C1-20, Rf1 est un groupe perfluoroalkylène, m est un nombre entier compris entre 2 et 500, (Rf1O)m peut comprendre Rf1O ayant deux nombres différents d'atomes de carbone, Q1 est un groupe perfluorohydrocarboné de valence (b + 1) ayant facultativement un groupe hydroxyle, R1 est un groupe organique monovalent ayant au moins un groupe silyle hydrolysable, b est un nombre entier supérieur ou égal à 2, et le nombre b de R1 peut être identique ou différent.
(JA) 初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、表面層を有する物品およびその製造方法の提供。 A-O-(Rf1O)-Q(Rで表される含フッ素エーテル化合物。ただし、Aは炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、Rf1はペルフルオロアルキレン基であり、mは2~500の整数であり、(Rf1O)は炭素数の異なる2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、Qは水酸基を有していてもよい(b+1)価のペルフルオロ炭化水素基であり、Rは少なくとも1個の加水分解性シリル基を有する1価の有機基であり、bは、2以上の整数であり、b個のRは、同一であっても異なっていてもよい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)