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1. (WO2019044429) ENCRE POUR JET D'ENCRE POUR SUBSTRAT EN CÉRAMIQUE
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N° de publication : WO/2019/044429 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/029665
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 07.08.2018
CIB :
C09D 11/38 (2014.01) ,B41J 2/01 (2006.01) ,B41M 5/00 (2006.01) ,C04B 41/85 (2006.01) ,C09D 11/322 (2014.01)
[IPC code unknown for C09D 11/38]
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
J
MACHINES À ÉCRIRE; MÉCANISMES D'IMPRESSION SÉLECTIVE, c. à d. MÉCANISMES IMPRIMANT AUTREMENT QUE PAR UTILISATION DE FORMES D'IMPRESSION; CORRECTION D'ERREURS TYPOGRAPHIQUES
2
Machines à écrire ou mécanismes d'impression sélective caractérisés par le procédé d'impression ou de marquage pour lequel ils sont conçus
005
caractérisés par la mise en contact sélective d'un liquide ou de particules avec un matériau d'impression
01
à jet d'encre
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
M
PROCÉDÉS D'IMPRESSION, DE REPRODUCTION, DE MARQUAGE OU DE COPIE; IMPRESSION EN COULEUR
5
Procédés de reproduction ou méthodes de reproduction ou de marquage; Matériaux en feuilles utilisés à cet effet
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
04
CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
B
CHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
41
Post-traitement des mortiers, du béton, de la pierre artificielle ou des céramiques; Traitement de la pierre naturelle
80
de céramiques uniquement
81
Revêtement ou imprégnation
85
avec des substances inorganiques
[IPC code unknown for C09D 11/322]
Déposants :
株式会社ノリタケカンパニーリミテド NORITAKE CO., LIMITED [JP/JP]; 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36号 3-1-36, Noritakeshinmachi, Nishi-ku, Nagoya-shi, Aichi 4518501, JP
Inventeurs :
林 博道 HAYASHI, Hiromichi; JP
熊澤 知志 KUMAZAWA, Tomoshi; JP
Mandataire :
安部 誠 ABE, Makoto; JP
Données relatives à la priorité :
2017-16765431.08.2017JP
Titre (EN) INKJET INK FOR CERAMIC SUBSTRATE
(FR) ENCRE POUR JET D'ENCRE POUR SUBSTRAT EN CÉRAMIQUE
(JA) セラミックス基材用インクジェットインク
Abrégé :
(EN) The present invention provides an inkjet ink for a ceramic substrate with which it is possible to suppress peeling of a printed layer after firing to better fix a desired image on a ceramic substrate. In this inkjet ink for a ceramic substrate, the proportion of monofunctional monomers in a monomer component is 90% by mass or higher, the volume ratio of inorganic solids relative to the total volume of the inkjet ink is 10-20% by volume, and the ratio (N-vinyl compound/monomer component) of an N-vinyl compound and the monomer component in the inkjet ink is 0.05-0.8 in terms of mass.
(FR) La présente invention concerne une encre pour jet d'encre pour un substrat en céramique qui permet de supprimer le pelage d'une couche imprimée après cuisson afin de mieux fixer une image souhaitée sur un substrat en céramique. Dans ladite encre pour jet d'encre pour un substrat céramique, la proportion de monomères monofonctionnels dans un composant monomère est supérieure ou égale à 90 % en masse, le rapport volumique des solides inorganiques par rapport au volume total de l'encre pour jet d'encre est compris entre 10 et 20 % en volume et le rapport (composé N-vinyle/composant monomère) d'un composé N-vinyle et du composant monomère dans l'encre pour jet d'encre est compris entre 0,05 et 0,8 en termes de masse.
(JA) 本発明によって、焼成後における印刷層の剥がれを抑制してセラミックス基材上に所望の画像をより良く定着させ得るセラミックス基材用インクジェットインクが提供される。ここで開示されるセラミックス基材用インクジェットインクは、モノマー成分における一官能モノマーの割合が90質量%以上であり、インクジェットインクの総体積に対する無機固形分の体積比率が10体積%~20体積%であり、インクジェットインクにおけるN‐ビニル化合物およびモノマー成分の含有量の比(N‐ビニル化合物/モノマー成分)が、質量基準で0.05~0.8である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)