Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019044369) COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ POUR MATÉRIAU DE PLAQUE D'IMPRESSION PHOTOSENSIBLE AYANT UNE EXCELLENTE RÉSISTANCE À L'ABRASION ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/044369 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/029078
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 02.08.2018
CIB :
C08F 297/04 (2006.01) ,B41N 1/12 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
297
Composés macromoléculaires obtenus en polymérisant successivement des systèmes différents de monomère utilisant un catalyseur de type ionique ou du type de coordination sans désactivation du polymère intermédiaire
02
utilisant un catalyseur du type anionique
04
en polymérisant des monomères vinylaromatiques et des diènes conjugués
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
N
CLICHÉS OU PLAQUES D'IMPRESSION; MATÉRIAUX POUR SURFACES UTILISÉES DANS L'IMPRESSION POUR IMPRIMER, ENCRER, MOUILLER OU SIMILAIRE; PRÉPARATION DE TELLES SURFACES POUR LEUR EMPLOI OU LEUR CONSERVATION
1
Clichés ou plaques d'impression; Matériaux à cet effet
12
en une autre matière que la pierre ou le métal
Déposants :
ジェイエスアール クレイトン エラストマー株式会社 KRATON JSR ELASTOMERS K.K. [JP/JP]; 東京都港区港南2丁目16番2号 太陽生命品川ビル9階 Taiyoseimeishinagawa Bldg. 9F, 2-16-2 Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075, JP
Inventeurs :
鳥居 政俊 TORII Masatoshi; JP
山本 慎吾 YAMAMOTO Shingo; JP
藤▲崎▼ 光 FUJISAKI Hikaru; JP
Mandataire :
特許業務法人川口國際特許事務所 KAWAGUTI & PARTNERS; 東京都新宿区北新宿二丁目21番1号新宿フロントタワー20階 Shinjuku Front Tower 20F, 2-21-1 Kita-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1690074, JP
Données relatives à la priorité :
2017-16399829.08.2017JP
Titre (EN) BLOCK COPOLYMER FOR PHOTOSENSITIVE PRINTING PLATE MATERIAL HAVING EXCELLENT ABRASION RESISTANCE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ POUR MATÉRIAU DE PLAQUE D'IMPRESSION PHOTOSENSIBLE AYANT UNE EXCELLENTE RÉSISTANCE À L'ABRASION ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 耐摩耗性に優れた感光性印刷版材用ブロック共重合体及びその製造方法
Abrégé :
(EN) Provided is a flexographic printing plate having improved abrasion resistance in addition to the moderate elasticity (softness) required for a flexographic printing plate. The present invention is a block copolymer for a photosensitive printing plate material that is a block copolymer comprising a polymer block composed mainly of at least two aromatic vinyl monomers and a polymer block composed mainly of at least one conjugated diene monomer, wherein the aromatic vinyl monomer introduced into the polymer block composed mainly of a conjugated diene block is 25-50 mass% of the total bonded aromatic vinyl monomer content in the block copolymer.
(FR) L'invention concerne une plaque d'impression flexographique présentant une résistance à l'abrasion améliorée en plus de l'élasticité modérée (souplesse) requise pour une plaque d'impression flexographique. La présente invention concerne un copolymère séquencé pour un matériau de plaque d'impression photosensible qui est un copolymère séquencé comprenant un bloc polymère composé principalement d'au moins deux monomères vinyliques aromatiques et un bloc polymère composé principalement d'au moins un monomère diène conjugué, le monomère vinylique aromatique introduit dans le bloc polymère composé principalement d'un bloc de diène conjugué représentant de 25 à 50 % en masse du contenu total de monomère vinylique aromatique lié dans le copolymère séquencé.
(JA) フレキソ印刷版に要求される適度な弾性(柔らかさ)に加えて、改善された耐摩耗性を備えたフレキソ印刷版を提供する。本発明は、少なくとも2個の芳香族ビニル単量体を主体とする重合体ブロックと、少なくとも1個の共役ジエン単量体を主体とする重合体ブロックからなるブロック共重合体であって、該共役ジエンブロックを主体とする重合体ブロックに導入された芳香族ビニル単量体が該ブロック共重合体中の全結合芳香族ビニル単量体含有量の25~50重量%である感光性印刷版材用ブロック共重合体である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)