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1. (WO2019044056) FILM DE DÉMOULAGE
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N° de publication : WO/2019/044056 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/019260
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 18.05.2018
CIB :
B32B 27/00 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 7/06 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
27
Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
7
Produits stratifiés caractérisés par la relation entre les couches, c. à d. produits comprenant essentiellement des couches ayant des propriétés physiques différentes, ou produits caractérisés par la jonction entre couches
02
en ce qui concerne les propriétés physiques, p.ex. la dureté
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
7
Produits stratifiés caractérisés par la relation entre les couches, c. à d. produits comprenant essentiellement des couches ayant des propriétés physiques différentes, ou produits caractérisés par la jonction entre couches
04
caractérisés par la liaison entre couches
06
permettant une séparation sans difficultés
Déposants :
東レフィルム加工株式会社 TORAY ADVANCED FILM CO., LTD. [JP/JP]; 東京都中央区日本橋本石町3丁目3番16号 3-16, Nihonbashi Hongoku-cho 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030021, JP
Inventeurs :
辻内直樹 TSUJIUCHI, Naoki; JP
中垣貴充 NAKAGAKI, Takamitsu; JP
Mandataire :
一條力 ICHIJO, Chikara; JP
Données relatives à la priorité :
2017-16522530.08.2017JP
Titre (EN) MOLD RELEASE FILM
(FR) FILM DE DÉMOULAGE
(JA) 離型フィルム
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide a mold release film simultaneously satisfying the following: a defect inspection of a film to be transferred can be suitably performed; the mold release film can be easily identified; solvent resistance is good; and separability after heating is good. This mold release film for achieving the above purpose has the following configuration. Specifically, the mold release film has a mold release layer on at least one surface of a substrate film, wherein the haze value of the mold release film is 1.5% to 8.0%, and the mold release layer is a cured layer of an active energy ray curable composition including a compound that has an alkyl group containing 8 or more carbon atoms.
(FR) L'objectif de la présente invention est de fournir un film de démoulage satisfaisant simultanément les éléments suivants : une inspection de défaut d'un film à transférer peut être effectuée de manière appropriée ; le film de démoulage peut être facilement identifié ; la résistance aux solvants est bonne ; et la séparabilité après chauffage est bonne. L'invention concerne un film de démoulage permettant d'atteindre l'objectif précité ayant la configuration suivante. Spécifiquement, le film de démoulage a une couche de démoulage sur au moins une surface d'un film de substrat, la valeur de trouble du film de démoulage étant de 1,5 % à 8,0 %, et la couche de démoulage étant une couche durcie d'une composition durcissable par rayonnement d'énergie active comprenant un composé qui a un groupe alkyle contenant 8 atomes de carbone ou plus.
(JA) 本発明は、被転写膜の欠点検査を適切に行うことができこと、離型フィルムの識別性が良好であること、耐溶剤性が良好であること、および加熱後の剥離性が良好であることを同時に満足する、離型フィルムを提供することを目的とする。 かかる目的を達するための本発明の離型フィルムは以下の構成を有する。すなわち、基材フィルムの少なくとも一方の面に離型層を有する離型フィルムであって、ヘイズ値が1.5~8.0%であり、かつ前記離型層が炭素数8以上のアルキル基を有する化合物を含む活性エネルギー線硬化性組成物の硬化層である、離型フィルム、である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)