Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019043952) PROCÉDÉ DE SÉCHAGE D'ENCRE ET DISPOSITIF DE SÉCHAGE D'ENCRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/043952 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/031848
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 04.09.2017
CIB :
H05K 3/28 (2006.01) ,B05C 9/14 (2006.01) ,B05D 3/04 (2006.01) ,F26B 9/06 (2006.01) ,F26B 21/00 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
22
Traitement secondaire des circuits imprimés
28
Application de revêtements de protection non métalliques
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
C
APPAREILLAGES POUR L'APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
9
Appareillages ou installations pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces par des moyens non prévus dans l'un des groupes B05C1/-B05C7/202
08
pour appliquer un liquide ou autre matériau fluide et exécuter une opération auxiliaire
14
l'opération auxiliaire nécessitant un chauffage
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
D
PROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
3
Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides
04
par exposition à des gaz
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
26
SÉCHAGE
B
SÉCHAGE DE MATÉRIAUX SOLIDES OU D'OBJETS PAR ÉLIMINATION DU LIQUIDE QUI Y EST CONTENU
9
Machines ou appareils pour le séchage d'un matériau solide ou d'objets au repos animés uniquement d'une agitation locale; Aération des placards ou armoires d'appartements
06
dans des tambours ou chambres fixes
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
26
SÉCHAGE
B
SÉCHAGE DE MATÉRIAUX SOLIDES OU D'OBJETS PAR ÉLIMINATION DU LIQUIDE QUI Y EST CONTENU
21
Dispositions pour l'alimentation ou le réglage de l'air ou des gaz pour le séchage d'un matériau solide ou d'objets
Déposants :
シライ電子工業株式会社 SHIRAI ELECTRONICS INDUSTRIAL CO.,LTD. [JP/JP]; 京都府京都市右京区梅津南広町46番地2 46-2, Umezuminamihiro-cho, Ukyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6150901, JP
富士商工株式会社 FUJISHOUKO CO.,LTD. [JP/JP]; 静岡県富士市入山瀬756-1 756-1, Iriyamase, Fuji-shi, Shizuoka 4190204, JP
Inventeurs :
大口 哲哉 OKUCHI Tetsuya; JP
影山 真博 KAGEYAMA Masahiro; JP
長谷川 俊介 HASEGAWA Shunsuke; JP
Mandataire :
鈴木 壯兵衞 SUZUKI Sohbe; JP
田中 秀▲てつ▼ TANAKA Hidetetsu; JP
廣瀬 一 HIROSE Hajime; JP
宮坂 徹 MIYASAKA Toru; JP
森 哲也 MORI Tetsuya; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) INK DRYING METHOD AND INK DRYING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE SÉCHAGE D'ENCRE ET DISPOSITIF DE SÉCHAGE D'ENCRE
(JA) インク乾燥方法及びインク乾燥装置
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide an ink drying method and an ink drying device capable of suppressing oxidation of a base material coated with an ink while drying the ink. The present invention provides an ink drying device for drying ink (2) coated on the surface of a base material (1), said ink drying device comprising a drying chamber (10) wherein the base material (1) whereof the surface has been coated with the ink (2) is placed, a superheated steam generation unit (20) for turning the atmosphere inside the drying chamber (10) into a superheated steam atmosphere, and an atmosphere control unit (30) for controlling the amount of superheated steam inside the drying chamber (10).
(FR) L'objectif de la présente invention est de fournir un procédé de séchage d'encre et un dispositif de séchage d'encre capables de supprimer l'oxydation d'un matériau de base revêtu d'une encre pendant le séchage de l'encre. La présente invention concerne un dispositif de séchage d'encre pour sécher de l'encre (2) appliquée sur la surface d'un matériau de base (1), ledit dispositif de séchage d'encre comprenant une chambre de séchage (10) dans laquelle est placé le matériau de base (1) dont la surface a été revêtue de l'encre (2), une unité de génération de vapeur surchauffée (20) pour faire circuler l'atmosphère à l'intérieur de la chambre de séchage (10) dans une atmosphère de vapeur surchauffée, et une unité de commande d'atmosphère (30) pour commander la quantité de vapeur surchauffée à l'intérieur de la chambre de séchage (10).
(JA) インクが塗布された基材の酸化を抑制しつつインクを乾燥することができるインク乾燥方法及びインク乾燥装置を提供する。インク乾燥装置は、基材(1)の表面に塗布したインク(2)を乾燥する装置であり、インク(2)を表面に塗布した基材(1)が配される乾燥室(10)と、乾燥室(10)内の雰囲気を過熱蒸気雰囲気とする過熱蒸気生成部(20)と、乾燥室(10)内の過熱蒸気の量を制御する雰囲気制御部(30)と、を備えている。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)