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1. (WO2019043866) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MASQUE DE FORMATION DE FILM
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N° de publication : WO/2019/043866 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/031346
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 31.08.2017
CIB :
C23C 14/04 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
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REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
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Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
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Revêtement de parties déterminées de la surface, p.ex. au moyen de masques
Déposants :
堺ディスプレイプロダクト株式会社 SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORPORATION [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumicho, Sakai-ku, Sakai-shi, Osaka 5908522, JP
Inventeurs :
岸本 克彦 KISHIMOTO, Katsuhiko; --
崎尾 進 SAKIO, Susumu; --
Mandataire :
奥田 誠司 OKUDA Seiji; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING FILM FORMATION MASK
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MASQUE DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜マスクの製造方法
Abrégé :
(EN) According to the present invention, a step for forming an opening in a mask base material includes: step A for forming openings inside a first region (R1) including openings of consecutive columns the number of which is a and which include at least (n/2)-th columns or {(n+1)/2}-th columns; step B for forming openings inside a second region (R2) which includes openings of b number of consecutive columns and is adjacent to the first region (R1) in a -x-direction with a first gap region (RS1) therebetween, the first gap region (RS1) including sa number of consecutive columns; and step C for forming openings inside a third region (R3) which includes an opening of c number of consecutive columns and is adjacent to the first region (R1) in an x-direction with a second gap region (RS2) therebetween, the second gap region (RS2) including sb number of consecutive columns, wherein step B and step C are performed after step A.
(FR) Selon la présente invention, l'invention concerne une étape de formation d'une ouverture dans un matériau de base de masque, comprenant : une étape A de formation d'ouvertures au sein d'une première région (R1) comprenant des ouvertures de colonnes consécutives, dont le nombre est a et qui comprennent au moins (n/2)-ièmes colonnes ou {(n+1)/2}èmes colonnes ; une étape B de formation d'ouvertures au sein d'une deuxième région (R2), qui comprend des ouvertures d'un nombre b de colonnes consécutives et qui est adjacente à la première région (R1) dans une direction x, une première région d'espace (RS1) étant ménagée entre ces dernières, la première région d'espace (RS1) comprenant un nombre sa de colonnes consécutives ; et une étape C de formation d'ouvertures au sein d'une troisième région (R3), qui comprend une ouverture d'un nombre c de colonnes consécutives et qui est adjacente à la première région (R1) dans une direction x, une deuxième région d'espace (RS2) étant ménagée entre ces dernières, la deuxième région d'espace (RS2) comprenant un nombre sb de colonnes consécutives, l'étape B et l'étape C étant effectuées après l'étape A.
(JA) マスク基材に開口部を形成する工程は、少なくとも(n/2)番目の列または{(n+1)/2}番目の列を含む、a本の連続した列の開口部を含む第1領域(R1)内の開口部を形成する工程Aと、sa本の連続した列を含む第1間隙領域(RS1)を介して、第1領域(R1)と-x方向に隣接し、b本の連続した列の開口部を含む第2領域(R2)内の開口部を形成する工程Bと、sb本の連続した列を含む第2間隙領域(RS2)を介して、第1領域(R1)とx方向に隣接し、c本の連続した列の開口部を含む第3領域(R3)内の開口部を形成する工程Cとを含み、工程Aの後に、工程Bおよび工程Cを行う。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)