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1. (WO2019043773) GÉNÉRATEUR DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
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N° de publication : WO/2019/043773 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/030851
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 29.08.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,H05G 2/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
G
TECHNIQUE DES RAYONS X
2
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
Déposants :
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
Inventeurs :
杉澤 克彦 SUGISAWA, Katsuhiko; JP
Mandataire :
松浦 憲三 MATSUURA, Kenzo; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATOR
(FR) GÉNÉRATEUR DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成装置
Abrégé :
(EN) [Problem] To enable easy measurement of the film thickness of debris adhered to the surface of a component without the need for the extensive disassembly of the in-chamber component in an extreme ultraviolet light generator. [Solution] An extreme ultraviolet light generator (10) comprises: a chamber (5) for generating extreme ultraviolet light by irradiating a droplet comprising a target material with laser light; an EUV light collector mirror (11) that is an optical element arranged in the chamber (5); and measuring equipment (24, 25) that can move along the surface (11S) of the EUV light collector mirror and measures the film thickness of a target material adhered to the surface (11S).
(FR) L'invention aborde le problème de permettre une mesure aisée de l'épaisseur de film de débris collés à la surface d'un composant sans nécessiter un démontage extensif du composant en chambre dans un générateur de lumière ultraviolette extrême. La solution selon l'invention porte sur un générateur de lumière ultraviolette extrême (10) qui comprend : une chambre (5) pour générer une lumière ultraviolette extrême par irradiation d'une gouttelette comprenant un matériau cible avec une lumière laser ; un miroir collecteur de lumière EUV (11) qui est un élément optique disposé dans la chambre (5) ; et un équipement de mesure (24, 25) qui peut se déplacer le long de la surface (11S) du miroir collecteur de lumière EUV et mesure l'épaisseur de film d'un matériau cible collé à la surface (11S).
(JA) 【課題】極端紫外光生成装置において、大掛かりなチャンバ内部品の取り外しを必要とせずに、部品表面に付着したデブリの膜厚を簡便に測定可能とする。 【解決手段】極端紫外光生成装置(10)は、ターゲット材料からなるドロップレットにレーザ光を照射して極端紫外光を生成するチャンバ(5)と、チャンバ(5)内に配置された光学素子であるEUV光コレクタミラー(11)と、EUV光コレクタミラーの表面(11S)に沿って移動可能であって、この表面(11S)に付着しているターゲット材料の膜厚を測定する測定装置(24、25)とを備える。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)