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1. (WO2019043204) POSITIONNEMENT D'ÉTAGE D'APPAREIL D'INSPECTION À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE
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N° de publication : WO/2019/043204 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/073548
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 31.08.2018
CIB :
H01J 37/20 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
20
Moyens de support ou de mise en position de l'objet ou du matériau; Moyens de réglage de diaphragmes ou de lentilles associées au support
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
HERMES MICROVISION, INC.; 7F, No.18, Puding Rd., East Dist. Hsinchu City, 300, TW
Inventeurs :
BAGGEN, Marcel, Koenraad, Marie; NL
ARENDS, Antonius, Henricus; NL
KUINDERSMA, Lucas; NL
VAN DE RIJDT, Johannes, Hubertus, Antonius; NL
HEMPENIUS, Peter, Paul; NL
VAN KEMPEN, Robertus, Jacobus, Theodorus; NL
BOSCH, Niels, Johannes, Maria; NL
VAN DE GROES, Henricus, Martinus, Johannes; NL
TSENG, Kuo-Feng; US
BUTLER, Hans; NL
RONDE, Michaël, Johannes, Christiaan; NL
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
17189213.604.09.2017EP
62/583,29008.11.2017US
Titre (EN) ELECTRON BEAM INSPECTION APPARATUS STAGE POSITIONING
(FR) POSITIONNEMENT D'ÉTAGE D'APPAREIL D'INSPECTION À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE
Abrégé :
(EN) An electron beam apparatus includes an electron optics system to generate an electron beam, an object table to hold the specimen at a target position so that a target portion of the specimen is irradiated by the electron beam, and a positioning device to displace the object table relative to the electron beam. The positioning device includes a stage actuator and a balance mass. The stage actuator exerts a force onto the object table to cause an acceleration of the object table. The force onto the object table results in a reaction force onto the balance mass. The balance mass moves in response to the reaction force. The positioning device enables the balance mass to move in a first direction in response to a component of the reaction force in the first direction.
(FR) Cette invention concerne un appareil à faisceau électronique, comprenant un système optique électronique pour générer un faisceau électronique, une table d'objet pour supporter l'échantillon dans une position cible de telle sorte qu'une partie cible de l'échantillon est irradiée par le faisceau électronique, et un dispositif de positionnement pour déplacer la table d'objet par rapport au faisceau électronique. Le dispositif de positionnement comprend un actionneur d'étage et une masse d'équilibrage. L'actionneur d'étage exerce une force sur la table d'objet de sorte à provoquer une accélération de la table d'objet. La force sur la table d'objet entraîne une force de réaction sur la masse d'équilibrage. La masse d'équilibrage se déplace en réponse à la force de réaction. Le dispositif de positionnement permet à la masse d'équilibrage de se déplacer dans une première direction en réponse à une composante de la force de réaction dans la première direction.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)