Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019042809) SYSTÈMES OPTIQUES, APPAREIL DE MÉTROLOGIE ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/042809 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/072432
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 20.08.2018
CIB :
G21K 1/06 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 17/04 (2006.01)
G PHYSIQUE
21
PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
K
TECHNIQUES NON PRÉVUES AILLEURS POUR MANIPULER DES PARTICULES OU DES RAYONNEMENTS IONISANTS; DISPOSITIFS D'IRRADIATION; MICROSCOPES À RAYONS GAMMA OU À RAYONS X
1
Dispositions pour manipuler des particules ou des rayonnements ionisants, p.ex. pour focaliser ou pour modérer
06
utilisant la diffraction, la réfraction ou la réflexion, p.ex. monochromateurs
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
17
Systèmes avec surfaces réfléchissantes, avec ou sans éléments de réfraction
02
Systèmes catoptriques, p.ex. systèmes redressant et renversant une image
04
utilisant uniquement des prismes
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
VAN DER POST, Sietse, Thijmen; NL
BÄUMER, Stefan, Michael, Bruno; NL
VAN VOORST, Peter, Danny; NL
TUKKER, Teunis, Willem; NL
ZIJP, Ferry; NL
NIENHUYS, Han-Kwang; NL
VAN DEN EERENBEEMD, Jacobus, Maria, Antonius; NL
Mandataire :
WILLEKENS, Jeroen, Pieter, Frank; NL
Données relatives à la priorité :
17188979.301.09.2017EP
18172804.917.05.2018EP
Titre (EN) OPTICAL SYSTEMS, METROLOGY APPARATUS AND ASSOCIATED METHODS
(FR) SYSTÈMES OPTIQUES, APPAREIL DE MÉTROLOGIE ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS
Abrégé :
(EN) An optical system (OS) for focusing a beam of radiation (B) on a region of interest in a metrology apparatus is described. The beam of radiation (B) comprises radiation in a soft X-ray or Extreme Ultraviolet spectral range. The optical system (OS) comprises a first stage (S1) for focusing the beam of radiation at an intermediate focus region. The optical system (OS) comprises a second stage (S2) for focusing the beam of radiation from the intermediate focus region onto the region of interest. The first and second stages each comprise a Kirkpatrick-Baez reflector combination. At least one reflector comprises an aberration- correcting reflector.
(FR) La présente invention concerne un système optique (OS) pour focaliser un faisceau de rayonnement (B) sur une région d'intérêt dans un appareil de métrologie. Le faisceau de rayonnement (B) comprend un rayonnement dans une plage spectrale de rayons X mous ou ultraviolets extrêmes. Le système optique (OS) comprend un premier étage (S1) pour focaliser le faisceau de rayonnement au niveau d'une région de focalisation intermédiaire. Le système optique (OS) comprend un second étage (S2) pour focaliser le faisceau de rayonnement de la région de focalisation intermédiaire sur la région d'intérêt. Les premier et second étages comprennent chacun une combinaison de réflecteurs de Kirkpatrick-Baez. Au moins un réflecteur comprend un réflecteur de correction d'aberration.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)