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1. (WO2019042726) SUBSTRAT, APPAREIL DE MÉTROLOGIE ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS POUR UN PROCESSUS LITHOGRAPHIQUE
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N° de publication : WO/2019/042726 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/071418
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 07.08.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
VERMA, Alok; NL
CRAMER, Hugo, Augustinus, Joseph; NL
THEEUWES, Thomas; NL
TSIATMAS, Anagnostis; NL
VERSTRAETEN, Bert; NL
Mandataire :
BROEKEN, Petrus; NL
Données relatives à la priorité :
17188175.828.08.2017EP
Titre (EN) SUBSTRATE, METROLOGY APPARATUS AND ASSOCIATED METHODS FOR A LITHOGRAPHIC PROCESS
(FR) SUBSTRAT, APPAREIL DE MÉTROLOGIE ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS POUR UN PROCESSUS LITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(EN) A substrate comprising a plurality of features for use in measuring a parameter of a device manufacturing process and associated methods and apparatus. The measurement is by illumination of the features with measurement radiation from an optical apparatus and detecting a signal arising from interaction between the measurement radiation and the features, wherein the plurality of features comprise first features distributed in a periodic fashion at a first pitch, and second features distributed in a periodic fashion at a second pitch, and wherein the first pitch and second pitch are such that a combined pitch of the first and second features is constant irrespective of the presence of pitch walk in the plurality of features.
(FR) L'invention concerne un substrat comprenant une pluralité de caractéristiques destinées à être utilisées pour la mesure d'un paramètre d'un processus de fabrication de dispositif, ainsi que des procédés et un appareil associés. La mesure est prise au moyen de l'éclairement des caractéristiques avec un rayonnement de mesure provenant d'un appareil optique et de la détection d'un signal résultant de l'interaction entre le rayonnement de mesure et les caractéristiques. La pluralité de caractéristiques comprend des premières caractéristiques réparties de manière périodique à un premier pas et des secondes caractéristiques réparties de manière périodique à un second pas, le premier et le second pas étant tels qu'un pas combiné des premières et secondes caractéristiques est constant indépendamment de la présence d'une marche de pas dans la pluralité de caractéristiques.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)