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1. (WO2019042682) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UN SUPPORT À L'INTÉRIEUR D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
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N° de publication : WO/2019/042682 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/070653
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 31.07.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
PEREZ-FALCON, Victor, Antonio; US
CHIEDA, Michael, Andrew; US
Mandataire :
SLENDERS, Peter; NL
Données relatives à la priorité :
62/550,78528.08.2017US
Titre (EN) APPARATUS FOR AND METHOD CLEANING A SUPPORT INSIDE A LITHOGRAPHY APPARATUS
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UN SUPPORT À L'INTÉRIEUR D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(EN) Methods and systems are described for cleaning a support such as a clamp of a chuck that holds a patterning device or a wafer in a lithographic apparatus. The method includes loading a electrostatic cleaning substrate into a lithographic apparatus. The electrostatic cleaning substrate includes at least one electrode. The method further includes bringing the electrostatic cleaning substrate near to the clamping surface to be cleaned and connecting the electrode to a voltage source. Particles present on the support are then transferred to the electrostatic cleaning substrate.
(FR) La présente invention porte sur des procédés et des systèmes de nettoyage d'un support tel qu'une pince d'un mandrin qui maintient un dispositif de modélisation ou une plaquette dans un appareil lithographique. Le procédé comprend le chargement d'un substrat de nettoyage électrostatique dans un appareil lithographique. Le substrat de nettoyage électrostatique comprend au moins une électrode. Le procédé consiste en outre à amener le substrat de nettoyage électrostatique à proximité de la surface de serrage devant être nettoyée et à connecter l'électrode à une source de tension. Les particules présentes sur le support sont ensuite transférées au substrat de nettoyage électrostatique.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)