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1. (WO2019042656) SYSTÈME DE CHAUFFAGE POUR UN COMPOSANT OPTIQUE D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
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N° de publication : WO/2019/042656 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/069558
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 18.07.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 7/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
7
Montures, moyens de réglage ou raccords étanches à la lumière pour éléments optiques
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
JANSSEN, Franciscus, Johannes, Joseph; NL
VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus; NL
Mandataire :
VERDONK, Peter; NL
Données relatives à la priorité :
17189243.304.09.2017EP
Titre (EN) HEATING SYSTEM FOR AN OPTICAL COMPONENT OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) SYSTÈME DE CHAUFFAGE POUR UN COMPOSANT OPTIQUE D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(EN) A system for heating an optical component of a lithographic apparatus, the system comprising a heating radiation source, the heating radiation source being configured to emit heating radiation for heating of the optical component, wherein the system is configured to direct the heating radiation emitted by the heating radiation source onto the optical component, a portion of the heating radiation being absorbed by the optical component and another portion of the heating radiation being reflected by optical component, and wherein the system is configured to vary or change a property of the heating radiation emitted by the heating radiation source such that the other portion of the heating radiation that is reflected by the optical component is constant during operation of the lithographic apparatus.
(FR) La présente invention concerne un système pour chauffer un composant optique d'un appareil lithographique, le système comprenant une source de rayonnement de chauffage, la source de rayonnement de chauffage étant configurée pour émettre un rayonnement de chauffage pour chauffer le composant optique, le système étant configuré pour diriger le rayonnement de chauffage émis par la source de rayonnement de chauffage sur le composant optique, une partie du rayonnement de chauffage étant absorbée par le composant optique et une autre partie du rayonnement de chauffage étant réfléchie par le composant optique, et le système étant configuré pour faire varier ou pour modifier une propriété du rayonnement de chauffage émis par la source de rayonnement de chauffage de façon à ce que la partie du rayonnement de chauffage qui est réfléchie par le composant optique soit constante pendant le fonctionnement de l'appareil lithographique.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)