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1. (WO2019042208) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE MESURE OPTIQUE
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N° de publication : WO/2019/042208 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/101861
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 23.08.2018
CIB :
G01N 21/88 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
Déposants :
深圳中科飞测科技有限公司 SKYVERSE LIMITED [CN/CN]; 中国广东省深圳市 龙华区大浪街道同胜社区上横朗第四工业区2号101、201、301 Room 101 201 and 301, No.2 The Fourth Industrial Park of Shanghengliang Tongsheng Community, Longhua District Shenzhen, Guangdong 518107, CN
Inventeurs :
陈鲁 CHEN, Lu; CN
张凌云 ZHANG, Lingyun; CN
张鹏斌 ZHANG, Pengbin; CN
Mandataire :
北京永新同创知识产权代理有限公司 NTD UNIVATION INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY LTD.; 中国北京市 东城区北三环东路36号北京环球贸易中心C座10层 10th Floor, Tower C, Beijing Global Trade Center 36 North Third Ring Road East, Dongcheng District Beijing 100013, CN
Données relatives à la priorité :
201710770825.531.08.2017CN
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR OPTICAL MEASUREMENT
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE MESURE OPTIQUE
(ZH) 光学测量系统及方法
Abrégé :
(EN) A system and a method for optical measurement are provided. The system for measurement comprises: an incident light generating unit, configured to generate incident light for performing measurement on a measurement target; a reflected light detection unit, configured to receive reflected light from the measurement target and determine a corresponding measurement result; and a processing unit, configured to specify a measurement path using a light spot formed on the surface of the measurement target by the incident light and to perform measurement on the measurement target, wherein the processing unit determines the distribution of defects in the measurement target on the basis of the measurement result. The system for measurement has a simple structure, a fast detection speed, and low cost. It also generates less stray light and has higher detection sensitivity.
(FR) L'invention concerne un système et un procédé de mesure optique. Le système de mesure comprend : une unité de génération de lumière incidente, conçue pour générer une lumière incidente afin d'effectuer une mesure sur une cible de mesure ; une unité de détection de lumière réfléchie, conçue pour recevoir la lumière réfléchie par la cible de mesure et déterminer un résultat de mesure correspondant ; et une unité de traitement, conçue pour spécifier un trajet de mesure à l'aide d'un point lumineux formé sur la surface de la cible de mesure par la lumière incidente et pour effectuer une mesure sur la cible de mesure, l'unité de traitement déterminant la distribution de défauts dans la cible de mesure en fonction du résultat de mesure. Le système de mesure présente une structure simple, une vitesse de détection rapide et un faible coût. Il génère également moins de lumière parasite et présente une sensibilité de détection plus élevée.
(ZH) 一种光学测量系统及方法。测量系统包括:入射光产生单元,其被配置为产生用于测量待测物的入射光;反射光检测单元,其被配置为接收来自待测物的反射光,并确定相应的测量结果;以及处理单元,被配置为利用入射光在待测物表面上形成的光斑以指定测量路径对待测物进行测量,处理单元基于测量结果来确定缺陷在待测物中的分布。测量系统结构简单、检测速度快、成本低,并且杂散光较少,具有更高的检测灵敏度。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)