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1. (WO2019042179) ENSEMBLE ÉLECTRODE INFÉRIEURE ET CHAMBRE DE TRAITEMENT
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N° de publication : WO/2019/042179 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/101340
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 20.08.2018
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
Déposants :
北京北方华创微电子装备有限公司 BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 北京经济技术开发区文昌大道8号 No.8 Wenchang Avenue Beijing Economic-Technological Development Area Beijing 100176, CN
Inventeurs :
赵晋荣 ZHAO, Jinrong; CN
简师节 JIAN, Shijie; CN
Mandataire :
北京天昊联合知识产权代理有限公司 TEE&HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; 中国北京市 东城区建国门内大街28号民生金融中心D座10层张天舒 Tianshu ZHANG 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center, 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005, CN
Données relatives à la priorité :
201710749263.628.08.2017CN
201721082276.428.08.2017CN
Titre (EN) LOWER ELECTRODE ASSEMBLY AND PROCESS CHAMBER
(FR) ENSEMBLE ÉLECTRODE INFÉRIEURE ET CHAMBRE DE TRAITEMENT
(ZH) 下电极组件及工艺腔室
Abrégé :
(EN) The present invention provides a lower electrode assembly and a process chamber. The lower electrode assembly comprises a base and an insulation ring disposed between the base and a chamber bottom wall. The insulation ring can form an equivalent capacitance between the base and the chamber bottom wall, and the equivalent capacitance is formed by parallel plate capacitors that are formed by filling at least two different mediums and that are connected in parallel. By means of the lower electrode assembly provided in the present invention, the grounding capacitance of the lower electrode assembly can be adjusted, so that the consistency of process devices of the same type satisfies requirements.
(FR) La présente invention concerne un ensemble électrode inférieure et une chambre de traitement. L'ensemble électrode inférieure comprend une base et une bague d'isolation disposée entre la base et une paroi inférieure de chambre. La bague d'isolation peut former une capacité équivalente entre la base et la paroi inférieure de chambre, et la capacité équivalente est formée par des condensateurs à plaques parallèles qui sont formés par remplissage avec au moins deux milieux différents et qui sont connectés en parallèle. Au moyen de l'ensemble électrode inférieure selon la présente invention, la capacité de mise à la masse de l'ensemble électrode inférieure peut être ajustée, de telle sorte que l'uniformité de dispositifs de traitement du même type satisfasse les exigences.
(ZH) 本发明提供一种下电极组件及工艺腔室,其包括基座以及设置在基座与腔室底壁之间的有绝缘环,该绝缘环能够在基座与腔室底壁之间形成等效电容,该等效电容由至少两种不同介质填充形成的平行板电容并联而成。本发明提供的下电极组件,可以实现对下电极组件对地电容的调节,从而可以使型号相同的工艺设备的一致性满足要求。
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)