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1. (WO2019042039) DISPOSITIF DE DÉVELOPPEMENT ET PROCÉDÉ DE DÉVELOPPEMENT ASSOCIÉ
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N° de publication : WO/2019/042039 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/096326
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 19.07.2018
CIB :
G03F 7/30 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26
Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
30
Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
Déposants :
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
合肥京东方显示技术有限公司 HEFEI BOE DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国安徽省合肥市 新站区新站工业物流园内A组团E区15幢综合楼 Block 15 Group-A Zone-E Of Industrial Park In Hefei New Station Hefei, Anhui 230012, CN
Inventeurs :
吴克芳 WU, Kefang; CN
周伟 ZHOU, Wei; CN
徐加荣 XU, Jiarong; CN
李允伟 LI, Yunwei; CN
王朝磙 WANG, Chaogun; CN
王震宇 WANG, Zhenyu; CN
陈远丹 CHEN, Yuandan; CN
Mandataire :
北京中博世达专利商标代理有限公司 BEIJING ZBSD PATENT&TRADEMARK AGENT LTD.; 中国北京市 海淀区交大东路31号11号楼8层 8F, Building 11 No. 31 Jiaoda East Road, Haidian District Beijing 100044, CN
Données relatives à la priorité :
201710780192.601.09.2017CN
Titre (EN) DEVELOPING DEVICE AND DEVELOPING METHOD THEREOF
(FR) DISPOSITIF DE DÉVELOPPEMENT ET PROCÉDÉ DE DÉVELOPPEMENT ASSOCIÉ
(ZH) 显影装置及其显影方法
Abrégé :
(EN) A developing device, comprising a developing mechanism (10) and a heating mechanism (20). The heating mechanism (20) comprises a plurality of heating units (21); the plurality of heating units (21) is provided above or below the developing mechanism (10); each of the plurality of heating units (21) is independently provided.
(FR) L'invention concerne un dispositif de développement comprenant un mécanisme de développement (10) et un mécanisme de chauffage (20). Le mécanisme de chauffage (20) comprend une pluralité d'unités de chauffage (21) ; la pluralité d'unités de chauffage (21) est disposée au-dessus ou au-dessous du mécanisme de développement (10) ; chaque unité de la pluralité d'unités de chauffage (21) est fournie de façon indépendante.
(ZH) 一种显影装置,包括显影机构(10)以及加热机构(20),其中,加热机构(20)包括多个加热单元(21),多个加热单元(21)设置于显影机构(10)上方或下方,且多个加热单元(21)中的每个独立设置。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)