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1. (WO2019042015) STRUCTURE DE COUCHE DE FILM, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UNE STRUCTURE DE COUCHE DE FILM
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N° de publication : WO/2019/042015 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/094880
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 06.07.2018
CIB :
H01L 51/52 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
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Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
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spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
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Détails des dispositifs
Déposants :
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
合肥鑫晟光电科技有限公司 HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国安徽省合肥市 新站区工业园内 Xinzhan Industrial Park Hefei, Anhui 230012, CN
Inventeurs :
王玉林 WANG, Yulin; CN
施槐庭 SHIH, Huai Ting; CN
宋丽芳 SONG, Lifang; CN
彭锐 PENG, Rui; CN
Mandataire :
北京市中咨律师事务所 ZHONGZI LAW OFFICE; 中国北京市 西城区平安里西大街26号新时代大厦7层 7F, New Era Building, 26 Pinganli Xidajie Xicheng District Beijing 100034, CN
Données relatives à la priorité :
201710751104.X28.08.2017CN
Titre (EN) FILM LAYER STRUCTURE, DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING FILM LAYER STRUCTURE
(FR) STRUCTURE DE COUCHE DE FILM, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UNE STRUCTURE DE COUCHE DE FILM
(ZH) 一种膜层结构、显示装置及膜层结构的制备方法
Abrégé :
(EN) The present application relates to the technical field of display, and provides a film layer structure, a display device, and a method for manufacturing a film layer structure. According to the present application, a first organic film layer having sloped edges is provided on a substrate, and an angle between a tangent of the upper surface of each sloped edge and the substrate is less than a breakable angle, which refers to a angle at which a first additional film layer formed on the sloped edge of the first organic layer is broken or tends to be broken.
(FR) La présente invention se rapporte au domaine technique de l'affichage et concerne une structure de couche de film, un dispositif d'affichage et un procédé permettant de fabriquer une structure de couche de film. Selon la présente invention, une première couche de film organique ayant des bords inclinés est disposée sur un substrat, et un angle entre une tangente de la surface supérieure de chaque bord incliné et le substrat est inférieur à un angle de rupture, qui fait référence à un angle auquel une première couche de film supplémentaire formée sur le bord incliné de la première couche organique se rompt ou tend à se rompre.
(ZH) 本公开文本提供了一种膜层结构、显示装置及膜层结构的制备方法,涉及显示技术领域。本公开文本通过在基板上设置具有斜坡状边缘的第一有机膜层,且所述斜坡状边缘的上表面的切线与所述基板之间的夹角小于易破裂角度,所述易破裂角度是指在第一有机层的斜坡状边缘上形成的第一附加膜层发生破裂或倾向于发生破裂的角度
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)