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1. (WO2019041898) SUBSTRAT DE MATRICE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
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N° de publication : WO/2019/041898 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/088012
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 23.05.2018
CIB :
H01L 27/12 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27
Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
02
comprenant des composants semi-conducteurs spécialement adaptés pour le redressement, l'amplification, la génération d'oscillations ou la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
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le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
Déposants :
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
合肥鑫晟光电科技有限公司 HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国安徽省合肥市 新站区工业园内 Xinzhan Industrial Park Hefei, Anhui 230012, CN
Inventeurs :
操彬彬 CAO, Binbin; CN
艾力 AI, Li; CN
张辉 ZHANG, Hui; CN
Mandataire :
北京市柳沈律师事务所 LIU, SHEN & ASSOCIATES; 中国北京市 海淀区彩和坊路10号1号楼10层 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080, CN
Données relatives à la priorité :
201710774031.631.08.2017CN
Titre (EN) ARRAY SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT DE MATRICE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 阵列基板及其制作方法、显示装置
Abrégé :
(EN) Provided are an array substrate and a manufacturing method thereof, and a display device. The array substrate comprises a base substrate (101), a layered structure (1110), and a reflective electrode (108). The base substrate (101) comprises a pixel region (PR). The pixel region (PR) comprises a reflective region (RR). The layered structure (1110) is located in the reflective region (RR) and comprises a granular layer (112). The granular layer (112) is configured such that one side of the layered structure (1110) away from the base substrate (101) has a granular, rough surface (1111). The reflective electrode (108) is provided over the granular layer (112). The array substrate can enhance diffuse reflection of a reflective region.
(FR) L'invention concerne un substrat de matrice et son procédé de fabrication, et un dispositif d'affichage. Le substrat de matrice comprend un substrat de base (101), une structure stratifiée (1110), et une électrode réfléchissante (108). Le substrat de base (101) comprend une zone de pixels (PR). La zone de pixels (PR) comprend une zone réfléchissante (RR). La structure stratifiée (1110) est située dans la zone réfléchissante (RR) et comprend une couche granulaire (112). La couche granulaire (112) est conçue de sorte qu'un côté de la structure stratifiée (1110) éloigné du substrat de base (101) a une surface rugueuse (1111) granulaire. L'électrode réfléchissante (108) est disposée au-dessus de la couche granulaire (112). Le substrat de matrice peut renforcer la réflexion diffuse d'une zone réfléchissante.
(ZH) 提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置。该阵列基板包括衬底基板(101)、反射区层结构(1110)和反射电极(108)。衬底基板(101)包括像素区(PR),所述像素区(PR)包括反射区(RR)。反射区层结构(1110)在所述反射区(RR)内,包括颗粒层(112),所述颗粒层(112)被配置为使所述反射区层结构(1110)远离所述衬底基板(101)的一侧具有颗粒状的粗糙表面(1111)。反射电极(108)在所述颗粒层(112)上。该阵列基板可提高反射区的漫反射效果。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)