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1. (WO2019038910) PROCÉDÉ D'ÉVALUATION DE POUDRE DE MOULAGE DE PIÈCES EN STRATIFIÉ ET POUDRE DE MOULAGE DE PIÈCES EN STRATIFIÉ
Document

明 細 書

発明の名称 積層造形用粉末の評価方法およびその積層造形用粉末

技術分野

0001  

背景技術

0002  

先行技術文献

特許文献

0003  

非特許文献

0004  

発明の概要

発明が解決しようとする課題

0005   0006  

課題を解決するための手段

0007   0008  

発明の効果

0009  

図面の簡単な説明

0010  

発明を実施するための形態

0011   0012   0013   0014   0015   0016   0017   0018   0019   0020   0021   0022   0023   0024   0025   0026   0027   0028   0029   0030   0031   0032   0033   0034   0035   0036   0037   0038   0039  

実施例

0040   0041   0042   0043   0044   0045   0046   0047   0048   0049   0050   0051   0052  

請求の範囲

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10  

図面

1   2A   2B   2C   2D   2E   2F   2G   2H   2I   2J   2K   2L   2M   2N   2O   3A   3B   3C   3D   3E   3F   4   5A   5B   6   7   8A   8B  

明 細 書

発明の名称 : 積層造形用粉末の評価方法およびその積層造形用粉末

技術分野

[0001]
 本発明は、積層造形用粉末の評価方法およびその積層造形用粉末に関する。

背景技術

[0002]
 上記技術分野において、特許文献1には、積層造形用顆粒としてWC基超硬合金粒子を用いる場合の条件として、JISZ2502に準拠した流動度の測定値を10~25sec/50gとする技術が開示されている。そして、非特許文献1には、金属粉-流動度測定方法であるJISZ2502の規格が記載されている。また、特許文献2には、平均円形度と、平均粒径と、サテライト状態とを含む基準により、アルミニウム粒子群の流動性を評価する技術が開示されている。

先行技術文献

特許文献

[0003]
特許文献1 : 特開2016-172904号公報
特許文献2 : 特開2017-066432号公報

非特許文献

[0004]
非特許文献1 : 日本工業規格(JIS Z 2502:2012)、「金属粉-流動度測定方法」

発明の概要

発明が解決しようとする課題

[0005]
 しかしながら、上記文献に記載の技術によるJISZ2502に準拠した流動度の測定は、積層造形用として使用可能と思われる微細粉末で測定不可となったり、測定環境の微妙な変化で同じ粉末が測定されたり測定不可となったりして、積層造形用粉末の判定基準として不安定である。そのため、積層造形用粉末としての評価が不十分であった。また、特許文献2のアルミニウム粒子群の流動性の評価であるサテライト付着率と微粒子の割合と平均円形度との評価が、そのまま積層造形装置における粉末のスキージング性の評価と結び付くわけではない。
[0006]
 本発明の目的は、上述の課題を解決する技術を提供することにある。

課題を解決するための手段

[0007]
 上記目的を達成するため、本発明に係る積層造形用粉末の評価方法は、
 少なくとも、粉末のサテライト付着率および前記粉末の見掛密度を用いて、積層造形用粉末のスキージング性を評価する。
[0008]
 上記目的を達成するため、本発明に係る積層造形用粉末は、
 上記積層造形用粉末の評価方法によって、積層造形において均一な粉末層を敷き詰めることができると評価された。

発明の効果

[0009]
 本発明によれば、安定した判定基準により積層造形用粉末のスキージング性を評価することができる。

図面の簡単な説明

[0010]
[図1] 本発明に係る実施形態の積層造形装置の構成例を示す図である。
[図2A] 本発明の実施例1の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2B] 本発明の実施例2の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2C] 本発明の実施例3の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2D] 本発明の実施例4の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2E] 本発明の実施例5の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2F] 本発明の実施例6の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2G] 本発明の実施例7の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2H] 本発明の実施例8の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2I] 本発明の実施例9の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2J] 本発明の実施例10の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2K] 本発明の実施例11の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2L] 本発明の実施例12の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2M] 本発明の実施例13の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2N] 本発明の実施例14の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図2O] 本発明の実施例15の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図3A] 本発明の比較例1の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図3B] 本発明の比較例2の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図3C] 本発明の比較例3の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図3D] 本発明の比較例4の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図3E] 本発明の比較例5の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図3F] 本発明の比較例6の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。
[図4] 本発明の実施形態1においてスキージング性をテストするための使用冶具を示す図である。
[図5A] 本発明の実施例1乃至3の粉末におけるスキージング性のテスト結果を示す図である。
[図5B] 本発明の実施例4および5の粉末におけるスキージング性のテスト結果を示す図である。
[図6] 本発明の比較例1乃至3の粉末におけるスキージング性のテスト結果を示す図である。
[図7] 本発明の実施例1、3および5、および、比較例1の粉末を積層造形装置においてスキージングした状態を示す図である。
[図8A] 本発明の実施形態2においてせん断応力を測定するためのせん断応力測定部の構成を示す図である。
[図8B] 本発明の実施形態2においてせん断応力測定部で測定されたせん断応力に基づいて付着力を求める方法を示す図である。

発明を実施するための形態

[0011]
 以下に、図面を参照して、本発明の実施の形態について例示的に詳しく説明する。ただし、以下の実施の形態に記載されている構成要素は単なる例示であり、本発明の技術範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。
[0012]
 [第1実施形態]
 《積層造形体の製造》
 図1は、本実施形態の積層造形装置100の概略構成例を示す図である。積層造形装置100は、電子ビームあるいはファイバレーザ101aの発射機構101と、粉末タンクであるホッパー102と、粉末を一定厚で敷き詰めた粉末床を形成するためのスキージングブレード103と、積層のために一定厚だけ下降を繰り返すテーブル104と、を有する。スキージングブレード103とテーブル104との協働により、均一な一定厚の粉末積層部105が生成される。各層には、3D-CADデータより得られたスライスデータを基にファイバレーザ101aを照射し、積層造形用粉末(例えば、金属粉末、特に銅粉末や銅合金粉末)を溶融して積層造形体105aが製造される。
[0013]
 このように、電子ビームあるいはファイバレーザ101aを熱源とし、積層造形用粉末を溶融凝固することで任意の形状の成形体が得られる。例えば、銅粉末が使用された場合は、電気回路のコネクタ、ヒートシンクや熱交換器などの分野における微細な造形が可能となるが、積層造形用粉末は銅粉末などの金属粉末に限定されるものではない。
[0014]
 《積層造形用粉末の製造》
 本実施形態の積層造形用粉末は、例えば、「回転ディスク法」、「ガスアトマイズ法」、「水アトマイズ法」、「プラズマアトマイズ法」、「プラズマ回転電極法」などにより製造可能である。本実施形態においては、これらの内、「ガスアトマイズ法」を使用し、ガスアトマイズとしてはヘリウム、アルゴン、窒素などのガスを用い、ガスの圧力と流量とを調整し粉末化の制御を行って積層造形用粉末を生成したが、他の製法によっても同様の積層造形用粉末が製造できる。製造した積層造形用粉末は、所定の分級サイズにより分級された。
[0015]
 《積層造形用粉末として使用可能である条件》
 積層造形用粉末として使用可能である条件としては、
(1)粉末を一定厚で敷き詰めた粉末床を形成することの可能なスキージング性を有すること、
(2)電子ビームあるいはファイバレーザによる照射による溶融および造形が可能なこと、
(3)積層造形された積層造形体が各用途の条件に耐える性質を有すること、
とが考えられる。
[0016]
 この内で、スキージング性は、そもそも粉末が積層造形装置100により使用可能か否かの基準であり、基本的にスキージング性が不十分な粉末は積層造形用粉末から排除される。
[0017]
 《スキージング性の評価対象》
 スキージング性が十分な粉末としては、以下の条件を必要とする。
(1) 積層造形用粉末粒子の粒径が、粉末床を形成できる範囲であること。例えば、レーザ回折法で測定したときの粉末粒子の50%粒径を測定あるいは算出し、その範囲が所定範囲内であること。
(2) 積層造形用粉末の粉末充填率が、粉末床の形成に適切な範囲であること。例えば、粉末の見掛け密度(AD:apparent density)を測定あるいは算出し、その範囲が所定範囲内であること。
(3) 積層造形用粉末の流動性が、供給ホッパーからの粉末供給ができて、かつ、適切な粉末床を形成できる範囲であること。例えば、粉末の流動性を測定あるいは算出し、その範囲が所定範囲内であること。
[0018]
 《流動性の評価について》
 流動性の評価については、特許文献1および非特許文献1に示したように、JISZ2502に準拠した流動性(FR:flow rate)が用いられていた。しかしながら、JISZ2502に準拠した流動度の測定は、積層造形用として使用可能と思われる微細粉末で測定不可となったり、測定環境の微妙な変化で同じ粉末が測定されたり測定不可となったりして、積層造形用粉末の判定基準として不安定である。そのため、積層造形用粉末としての評価が不十分となっていた。
[0019]
 例えば、積層造形向けの粉末としては、一般的に平均粒径が20~45μmの微細な粉末が用いられるが、将来的には20μm以下のより微細な粉末の使用が望まれている。微細粉末は付着力が強いため流動性に乏しく、積層造形に必要な粉末層の生成が困難である。このような微細粉末の場合、JISZ2502では測定不可となる場合があり、積層造形における粉末の流動形態を適切に評価する上では不十分である。そして、測定不可の場合に、積層造形用粉末としての評価が難かしくなるが、実際には、測定不可となった粉末でも、装置や供給方法により微細粉末の積層が可能となる場合があり、見極めは困難となってしまう。
[0020]
 例えば、歪で不均一な形状や、サテライトが多量に付着した粉末では、粉末の流動性および拡がり性が阻害され、均一な粉末層を生成することができず、ポアの発生や密度低下などを引き起こし高密度かつ高品質で均質な造形体が得られない。十分な流動性および拡がり性を持たせるには粉末は球状により近いことが理想であるが、より球状の度合が高い粉末を得ようとすると製造コストが高くなる。本発明者らは鋭意検討した結果、サテライトの付着量を一定量以下に管理することで積層造形用に適した十分な流動性および拡がり性を確保できることを見出した。
[0021]
 そのため、本実施形態においては、流動性の目安として、測定結果が不安定なJISZ2502に準拠した方法でなく、測定結果が安定して得られるサテライト付着率を流動性の評価基準として用いて、他の評価対象と組み合わせた。ここで、粉末粒子における「サテライト付着率」とは、サテライトが付着した粉末粒子の数、サテライトが付着してない粉末粒子を含む全粒子の数に対する割合である。
[0022]
 (サテライト付着率の測定方法)
 本実施形態においては、製造された粉末を撮像した走査型電子顕微鏡(SEM)像から、サテライトが付着した粉末粒子の数と、サテライトが付着してない粉末粒子の数とを数えて、粉末全体のサテライト付着率として算出した。なお、走査型電子顕微鏡(SEM)像から画像処理によって、サテライトが付着した粉末粒子の数と、サテライトが付着してない粉末粒子の数とを抽出して、粉末全体のサテライト付着率として算出してもよい。
[0023]
 (スキージング性の評価)
 図4は、本実施形態においてスキージング性をテストするための使用冶具400を示す図である。図4の上図401は使用冶具400を上面から見た図であり、図4の下図402は使用冶具400を底面から見た図である。この使用冶具400は、ドクターブレードあるいはアプリケータと呼ばれ、金属ブロックの片面を加工してすき間をつくり、塗料やインクなどを一定の膜厚で塗布することができる冶具である。
[0024]
 本実施形態においては、塗幅50mm、塗布厚100μmの使用冶具300の両端をつまんで、積層造形装置100のテーブル104、あるいは、相当する水平板に押し付けながら、所定速度で引くことによって、粉末層の形成を試みた。そして、一様な粉末層が形成されるか否かを観察した。なお、所期粉末量あるいは速度を変化させて繰り返し試みた。
[0025]
 さらに、粉末を積層造形装置100によってスキージングさせることによって、使用冶具400を用いたスキージング性の試験と、積層造形装置100によるスキージング性との関連を確かめた。
[0026]
 《スキージング性の評価基準》
 上記粉末から測定された特性と、使用冶具を用いたスキージング性の試験と、積層造形装置によるスキージング性との関連から、銅粉末あるいは銅合金粉末を用いた場合の、以下の評価基準を得た。
(1) レーザ回折法で測定したときの銅粉末粒子の50%粒径が3μm~250μmの範囲であること。例えば、銅粉末粒子の50%粒径が3μm未満の場合は流動性がなく、SLM方式の積層造形装置においても粉末床を形成できない。一方、銅粉末粒子の50%粒径が250μmより大きい場合は、EBM方式の積層造形装置においても粉末床の表面が荒れて造形に適切な粉末床を形成できない。
(2) 銅粉末の見掛け密度(AD:apparent density)が3.5g/cm 3以上であること。例えば、銅粉末の見掛け密度が3.5g/cm 3未満の場合は、積層造形装置において粉末床の粉末充填率が下り適切な粉末床を形成できない。
(3) 銅粉末の流動性(サテライト付着率)が50%以下であること。銅粉末のサテライト付着率が50%以上の場合は、積層造形装置において供給ホッパーからの粉末供給ができず、かつ、適切な粉末床を形成できない。
[0027]
 なお、上記3つの条件の内、(2)見掛け密度は、積層造形用粉末の種類や金属の種類でその条件が異なるが、(1)50%粒径や(3)流動性(サテライト付着率)については、積層造形用粉末の種類や金属の種類によらず同様の範囲となる。そして、(3)流動性(サテライト付着率)による評価は必須であり、さらに、(1)50%粒径および(2)見掛け密度の少なくともいずれかが積層造形用粉末の条件を限定することになる。
[0028]
 《本実施形態の効果》
 本実施形態により、安定した判定基準により積層造形用粉末を評価することができる。そして、その判定基準によれば、積層造形用粉末として使用可能な粉末を容易に判定することができる。
[0029]
 そして、均一な粉末層を敷き詰めることができ、偏析やボイド等の欠陥がない、高密度かつ高品質で均質な造形体を得られる。また、積層造形に銅粉末あるいは銅合金粉末を用いる際の原料コストを抑えることができる。
[0030]
 すなわち、サテライト付着率が50%を超える場合、粉末のスキージング性が不良となる。また、導電性が低下し、電子ビーム積層造形の予備加熱工程における仮焼結を阻害する恐れがある。
[0031]
 また、見掛け密度が3.5g/cm 3未満の場合は粉末層における粉末の充填性が低下し、造形体に空孔が生じて造形体の密度が低下する。
[0032]
 また、レーザー回折法で測定した50%粒径が3μm未満の場合、粉末が激しく飛散して造形体に再付着するなど、表面欠陥を生じる。レーザービームを使用する積層造形の場合は50%粒径が75μmより大きい場合、また電子ビームを使用する積層造形の場合は50%粒径が250μmより大きい場合は、造形体の表面が粗くなり外観不良を生じたり、ビーム照射時に粉末層に生じたメルトプールが直下の凝固層にまで達せず、不十分な溶融凝固となり造形不良を引き起こす。
[0033]
 [第2実施形態]
 本実施形態においては、さらに、粉末粒子における「付着力」を考慮して、積層造形用粉末を評価する。ここで、「付着力」とは、せん断力試験に基づいて算出されるものである。
[0034]
 例えば、積層造形向けの粉末としては、一般的に平均粒径が20~45μmの微細な粉末が用いられるが、将来的には20μm以下のより微細な粉末の使用が望まれている。微細粉末は付着力が強いため流動性に乏しく、積層造形に必要な粉末層の生成が困難である。このような微細粉末の場合、JISZ2502では測定不可となる場合があり、積層造形における粉末の流動形態を適切に評価する上では不十分である。そして、測定不可の場合に、積層造形用粉末としての評価が難かしくなるが、実際には、測定不可となった粉末でも、装置や供給方法により微細粉末の積層が可能となる場合があり、見極めは困難となってしまう。
[0035]
 このような微細粉末の流動性が乏しいのは、微細粉末を構成する粒子同士の強い付着力と運動エネルギーが極小であることとに由来する。この内、粉末の付着力は、粒子が小さくなるほど相対的に大きくなることが知られている。付着力は粉末の流動性を阻害する拘束力として作用する。一方、運動エネルギーは質量に比例するが、粒子の質量は粒径の3乗に比例するため、微細な粒子の運動エネルギーは極めて小さくなり、粒子の移動に必要な重力、慣性力が小さくなり、拘束力である付着力を超えることができず、粉末の流動を生じさせることができなくなる。
[0036]
 《付着力の測定》
 本実施形態では、測定結果が安定して得られる付着力をさらに流動性の評価基準として用いて、他の評価対象と組み合わせた。
[0037]
 (付着力の測定方法)
 図8Aは、本実施形態においてせん断応力を測定するためのせん断応力測定部800の構成を示す図である。せん断応力測定部800は回転セル法によりせん断応力を測定し、外部セル802の内部に、下部に刃付きのブレードが取り付けられた回転セル801を載せ、外部セル202の上部に非測定用の粉末を充填する。回転セル801から外部セル802に向けて所定の垂直応力を掛けながら、回転セル801の回転トルクからせん断応力を測定する。
[0038]
 図8Bは、本実施形態においてせん断応力測定部800で測定されたせん断応力に基づいて付着力を求める方法を示す図である。図8Bのように、せん断応力測定部800により各垂直応力下でのせん断発生時に測定されるせん断応力をプロットしたものを破壊包絡線と呼び、破壊包絡線よりも強いせん断応力が加わることで粉体層にすべりが発生する。破壊包絡線(例えば、810)上で、垂直応力が0(ゼロ)の時のせん断応力を粒子間の付着力として求める。
[0039]
 《本実施形態の効果》
 本実施形態によれば、さらに正確に積層造形用粉末が使用可能か否かを評価することができる。
実施例
[0040]
 以下、本実施形態に従った実施例1~15と、比較例1~6とにより、評価された積層造形用粉末の評価結果と、使用冶具を用いたスキージング性の試験と、積層造形装置によるスキージング性との関連から、本実施形態の積層造形用粉末の評価方法における評価基準を検証する。
[0041]
 《積層造形用銅粉末の製造》
 以下、本実施例においては、ガスアトマイズ法を用いて、ガスアトマイズとしてはヘリウム、アルゴン、窒素などのガスを用い、ガスの圧力と流量とを調整し粉末化の制御を行って、銅粉末あるいは銅合金粉末を生成して、本実施形態の積層造形用粉末の評価方法における評価基準を検証した。しかしながら、他の粉末や他の金属粉末においても、以下の実施例が参照可能である。
[0042]
 《サテライト付着率の測定》
 図2A~図2Oは、実施例1~実施例15の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。図3A~図3Fは、比較例1~比較例6の粉末のサテライト付着率を測定するための走査型電子顕微鏡(SEM)像を示す図である。かかる走査型電子顕微鏡(SEM)像を用いて、各実施例および比較例の粉末のサテライト付着率を取得した。表1に、実施例1~15および比較例1~6におけるJISZ2502に準拠したFR(sec/50g)測定結果と、サテライト付着率の測定結果との対応表を示す。
[0043]
[表1]



 表1から明らかなように、FR(sec/50g)測定結果では「測定不可」となった銅粉末あるいは銅合金粉末においてもサテライト付着率の測定結果は得られるので、FR(sec/50g)測定結果では使用不可と判定された粉末も、積層造形用粉末として使用可能か否かの判定が可能となる。
[0044]
 《50%粒径および見掛密度の測定》
 実施例1~15とおよび比較例1~6の銅粉末あるいは銅合金粉末について、レーザ回折法により50%粒度(μm)を測定した(マイクロトラックMT3300:マイクロトラックベル株式会社製)。また、JISZ2504に準じて、銅粉末あるいは銅合金粉末の見掛密度(g/cm 3)を測定した。
[0045]
 《スキージング性の試験》
 図4に示した使用冶具400を用いて、実施例1~15とおよび比較例1~6の銅粉末あるいは銅合金粉末について、スキージング性をテストした。
[0046]
 図5Aおよび図5Bは、実施例1乃至5の粉末におけるスキージング性のテスト結果を示す図である。図6は、比較例1乃至3の粉末におけるスキージング性のテスト結果を示す図である。図5A、図5Bおよび図6には、実施例および比較例の一部を示したが、他の実施例および比較例においても同じ結果であった。
[0047]
 表2に、実施例1~15とおよび比較例1~6の特性(サテライト付着率、50%粒度、見掛密度)と、スキージング性の試験結果との対応を示す。
[0048]
[表2]


[0049]
 《積層造形装置によるスキージング結果》
 図7は、実施例1、3、5、および、比較例1の粉末を積層造形装置においてスキージングした状態を示す図である。図7に示したように、表2でスキージング性が良好と判定された粉末を使用した場合、積層造形装置におけるスキージングも良好であり、逆に、表2でスキージング性が不良や不可と判定された粉末を使用した場合、積層造形装置におけるスキージングも不良であった。
[0050]
 したがって、本実施形態で示した、スキージング性の判定基準である、サテライト付着率と、50%粒径または見掛密度とによる評価が有用であることが明らかになった。
[0051]
 《付着力の測定》
 図8Aに示したせん断応力測定キットを用いて、銅粉末あるいは銅合金粉末のせん断応力を測定してパウダーレオメータFT4(Malvern Instruments製)に入力し、図8Bに従って付着力を算出した。表3に、実施例1~15および比較例1~6の特性(サテライト付着率、50%粒度、見掛密度、付着力)と、スキージング性の試験結果との対応を示す。
[0052]
[表3]


請求の範囲

[請求項1]
 少なくとも、粉末のサテライト付着率および前記粉末の見掛密度を用いて、積層造形用粉末のスキージング性を評価する積層造形用粉末の評価方法。
[請求項2]
 前記サテライト付着率は、サテライトが付着した粉末数の全体の粉末数に対する割合であって、50%以下であり、かつ、前記見掛け密度が3.5g/cm 3以上である場合に、積層造形において均一な粉末層を敷き詰めることができると評価する請求項1に記載の積層造形用粉末の評価方法。
[請求項3]
 さらに、レーザ回折法による前記粉末の50%粒径を用いて、積層造形用粉末を評価する請求項1または2に記載の積層造形用粉末の評価方法。
[請求項4]
 前記50%粒径が3~250μmである請求項3に記載の積層造形用粉末の評価方法。
[請求項5]
 さらに、パウダーレオメータにより実施されるせん断試験によって得られた破壊包絡線から求めた粉末の付着力を用いて、積層造形用粉末を評価する請求項1乃至4のいずれか1項に記載の積層造形用粉末の評価方法。
[請求項6]
 前記付着力が0.450kPa以下である場合に、積層造形において均一な粉末層を敷き詰めることができると評価する請求項5に記載の積層造形用粉末の評価方法。
[請求項7]
 前記積層造形用粉末は金属粉末または金属合金粉末である請求項1乃至6のいずれか1項に記載の積層造形用粉末の評価方法。
[請求項8]
 前記金属粉末または金属合金は、銅粉末または銅合金粉末である請求項7に記載の積層造形用粉末の評価方法。
[請求項9]
 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の積層造形用粉末の評価方法によって、積層造形において均一な粉末層を敷き詰めることができると評価された積層造形用粉末。
[請求項10]
 前記積層造形用粉末は銅粉末または銅合金粉末を含む請求項9に記載の積層造形用粉末。

図面

[ 図 1]

[ 図 2A]

[ 図 2B]

[ 図 2C]

[ 図 2D]

[ 図 2E]

[ 図 2F]

[ 図 2G]

[ 図 2H]

[ 図 2I]

[ 図 2J]

[ 図 2K]

[ 図 2L]

[ 図 2M]

[ 図 2N]

[ 図 2O]

[ 図 3A]

[ 図 3B]

[ 図 3C]

[ 図 3D]

[ 図 3E]

[ 図 3F]

[ 図 4]

[ 図 5A]

[ 図 5B]

[ 図 6]

[ 図 7]

[ 図 8A]

[ 図 8B]