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1. (WO2019033536) SOURCE D'ÉVAPORATION
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N° de publication : WO/2019/033536 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/106790
Date de publication : 21.02.2019 Date de dépôt international : 19.10.2017
CIB :
C23C 14/26 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
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REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
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Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
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caractérisé par le procédé de revêtement
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Evaporation sous vide
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par chauffage de la source par induction ou par résistance
Déposants :
武汉华星光电半导体显示技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国湖北省武汉市 东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室 305 Room, Building C5 Biolake of Optics Valley, No.666 Gaoxin Avenue, Wuhan East Lake High-tech Development Zone Wuhan, Hubei 430079, CN
Inventeurs :
邹新 ZOU, Xin; CN
Mandataire :
深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) ESSEN PATENT & TRADEMARK AGENCY; 中国广东省深圳市 福田区深南大道6021号喜年中心A座1709-1711 Hailrun Complex Block A Room 1709-1711 No.6021 Shennan Blvd, Futian District ShenZhen, Guangdong 518040, CN
Données relatives à la priorité :
201710706267.617.08.2017CN
Titre (EN) EVAPORATION SOURCE
(FR) SOURCE D'ÉVAPORATION
(ZH) 蒸发源
Abrégé :
(EN) An evaporation source, comprising an evaporation source body made from a conductive material. The evaporation source body comprises: a main body (101), a material cavity (102) being provided inside the main body (101); a first electrode connection end (103) provided outside the main body (101); and a second electrode connection end (104) with polarity opposite to that of the first electrode connection end (103). After the first electrode connection end (103) and the second electrode connection end (104) are electrified, the main body (101) itself conducts electricity and generates heat, so as to heat the material inside the material cavity (102).
(FR) L'invention concerne une source d'évaporation comprenant un corps de source d'évaporation constitué d'un matériau conducteur. Le corps de source d'évaporation comprend : un corps principal (101), une cavité de matériau (102) disposée à l'intérieur du corps principal (101) ; une première extrémité de connexion d'électrode (103) disposée à l'extérieur du corps principal (101) ; et une seconde extrémité de connexion d'électrode (104) présentant une polarité opposée à celle de la première extrémité de connexion d'électrode (103). Après que la première extrémité de connexion d'électrode (103) et la seconde extrémité de connexion d'électrode (104) sont électrifiées, le corps principal (101) conduit lui-même l'électricité et génère de la chaleur, de façon à chauffer le matériau à l'intérieur de la cavité de matériau (102).
(ZH) 一种蒸发源,包括由导电材料制成的蒸发源本体;蒸发源本体包括:主体(101),主体(101)内部开设有材料腔室(102);主体(101)外侧的设置有第一电极连接端(103),以及与第一电极连接端(103)极性相反的第二电极连接端(104),第一电极连接端(103)与第二电极连接端(104)通电后,主体(101)自身导电产生热量以加热材料腔室(102)内的材料。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)