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1. (WO2019033502) DISPOSITIF DE DIFFUSION DE GAZ ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM
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N° de publication : WO/2019/033502 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/102574
Date de publication : 21.02.2019 Date de dépôt international : 21.09.2017
CIB :
C23C 16/455 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
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REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
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Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
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caractérisé par le procédé de revêtement
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caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
Déposants :
武汉华星光电半导体显示技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国湖北省武汉市 东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室 305 Room, Building C5, Biolake of Optics Valley, No. 666 Gaoxin Avenue, Wuhan East Lake High-tech Development Zone Wuhan, Hubei 430070, CN
Inventeurs :
王杲祯 WANG, Gaozhen; CN
Mandataire :
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) CHINA WISPRO INTELLECTUAL PROPERTY LLP.; 中国广东省深圳市 南山区高新区粤兴三道8号中国地质大学产学研基地中地大楼A806 Room A806 Zhongdi Building, China University of Geosciences Base, No. 8 Yuexing 3rd Road, High-Tech Industrial Estate, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518057, CN
Données relatives à la priorité :
201710716215.716.08.2017CN
Titre (EN) GAS DIFFUSION DEVICE AND FILM FORMING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE DIFFUSION DE GAZ ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM
(ZH) 气体扩散装置及成膜设备
Abrégé :
(EN) A gas diffusion device. The device comprises a cover plate (11), a first diffusion portion (12), and a second diffusion portion (13). The first diffusion portion (12) cooperates with the cover plate (11) to form a first diffusion space (121) and an air inlet (122) in communication with the first diffusion space (121). The second diffusion portion (13) cooperates with the cover plate (11) to form a second diffusion space (131) and an air outlet (132) in communication with the second diffusion space (131). The second diffusion space (131) is in communication with the first diffusion space (121), such that a gas entering from the air inlet (122) is transferred through the first diffusion space (121) and the second diffusion space (131) and then output from the air outlet (132). In a direction from the air inlet (122) to the air outlet (132), a gap height between the first diffusion portion (12) and the cover plate (11) gradually decreases, and a gap height between the second diffusion portion (13) and the cover plates (11) first gradually increases, and then gradually decreases. The device can improve efficiency of uniform gas diffusion and improve gas utilization. Further disclosed is a film forming apparatus comprising the gas diffusion device.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de diffusion de gaz. Le dispositif comprend une plaque de recouvrement (11), une première partie de diffusion (12) et une seconde partie de diffusion (13). La première partie de diffusion (12) coopère avec la plaque de recouvrement (11) pour former un premier espace de diffusion (121) et une entrée d'air (122) en communication avec le premier espace de diffusion (121). La seconde partie de diffusion (13) coopère avec la plaque de recouvrement (11) pour former un second espace de diffusion (131) et une sortie d'air (132) en communication avec le second espace de diffusion (131). Le second espace de diffusion (131) est en communication avec le premier espace de diffusion (121), de telle sorte qu'un gaz entrant par l'entrée d'air (122) circule dans le premier espace de diffusion (121) et dans le second espace de diffusion (131), puis est évacué par la sortie d'air (132). Dans une direction allant de l'entrée d'air (122) à la sortie d'air (132), une hauteur d'espace entre la première partie de diffusion (12) et la plaque de recouvrement (11) diminue progressivement, et une hauteur d'espace entre la seconde partie de diffusion (13) et la plaque de recouvrement (11) augmente d'abord progressivement, puis diminue progressivement. Le dispositif peut améliorer l'efficacité d'une diffusion de gaz uniforme et améliorer l'utilisation d'un gaz. L'invention concerne en outre un appareil de formation de film comprenant le dispositif de diffusion de gaz.
(ZH) 一种气体扩散装置,该装置包括盖板(11)、第一扩散部(12)、第二扩散部(13)。第一扩散部(12)与盖板(11)配合形成第一扩散空间(121)以及与第一扩散空间(121)连通的进气口(122)。第二扩散部(13)与盖板(11)配合形成第二扩散空间(131)以及与第二扩散空间(131)连通的出气口(132),第二扩散空间(131)与第一扩散空间(121)连通,以使得从进气口(122)进入的气体经第一扩散空间(121)和第二扩散空间(131)传输后从出气口(132)输出。其中在从进气口(122)到出气口(132)的方向上,第一扩散部(12)与盖板(11)之间的间隙高度逐渐变小,而第二扩散部(13)与盖板(11)之间的间隙高度先逐渐变大,后逐渐变小。该装置能够提高气体均匀扩散的效率,提升气体的利用率。还公开了一种包括该气体扩散装置的成膜设备。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)