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1. (WO2019033307) DISPOSITIF DE STOCKAGE DE DÉCHETS LIQUIDES ET SYSTÈME DE GRAVURE HUMIDE
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N° de publication : WO/2019/033307 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/097696
Date de publication : 21.02.2019 Date de dépôt international : 16.08.2017
CIB :
C02F 9/06 (2006.01) ,C02F 1/72 (2006.01) ,B65D 88/54 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
02
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
F
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
9
Traitement en plusieurs étapes de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
04
une étape au moins étant un traitement chimique
06
Traitement électrochimique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
02
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
F
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1
Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
72
par oxydation
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
65
MANUTENTION; EMBALLAGE; EMMAGASINAGE; MANIPULATION DES MATÉRIAUX DE FORME PLATE OU FILIFORME
D
RÉCEPTACLES POUR L'EMMAGASINAGE OU LE TRANSPORT D'OBJETS OU DE MATÉRIAUX, p.ex. SACS, TONNEAUX, BOUTEILLES, BOÎTES, BIDONS, CAISSES, BOCAUX, RÉSERVOIRS, TRÉMIES OU CONTENEURS D'EXPÉDITION; ACCESSOIRES OU FERMETURES POUR CES RÉCEPTACLES; ÉLÉMENTS D'EMBALLAGE; PAQUETS
88
Grands réceptacles
54
caractérisés par des moyens pour faciliter le remplissage ou le vidage
Déposants :
深圳市柔宇科技有限公司 SHENZHEN ROYOLE TECHNOLOGIES CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 龙岗区横岗街道龙岗大道8288号大运软件小镇43栋 Building #43, Dayun Software Town, No. 8288 Longgang Road, Henggang Street, Longgang District Shenzhen, Guangdong 518052, CN
Inventeurs :
徐蕊 XU, Rui; CN
曹飞 CAO, Fei; CN
钟仁聪 ZHONG, Rencong; CN
Mandataire :
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) TSINGYIHUA INTELLECTUAL PROPERTY LLC; 中国北京市 清华园清华大学照澜院商业楼301室 Room 301 Trade Building, Zhaolanyuan, Tsinghua University, Qinghuayuan Beijing 100084, CN
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) WASTE LIQUID STORAGE DEVICE AND WET ETCHING SYSTEM
(FR) DISPOSITIF DE STOCKAGE DE DÉCHETS LIQUIDES ET SYSTÈME DE GRAVURE HUMIDE
(ZH) 废液存储装置和湿式蚀刻系统
Abrégé :
(EN) A waste liquid storage device (10) and a wet etching system having the waste liquid storage device (10), for storing a waste liquid (20) generated by wet etching. The waste liquid (20) comprises a first solute (22) and a second solute (24), and the second solute (24) is a catalyst for an exothermic oxidation reaction of the first solute (22). The waste liquid storage device (10) comprises a first liquid storage tank (11) and a first conduit (12) for connecting an external complexant solution source (30) with the first liquid storage tank (11). The first liquid storage tank (11) is used for storing the waste liquid (20), the first conduit (12) is used for channeling a complexant (32) to the first liquid storage tank (11), and the complexant (32) is used to inhibit the catalytic ability of the second solute (24) for reaction of the first solute (22). The wet etching system (100) comprises a wet etching machine (40) for etching workpieces and generating the waste liquid (20), and the waste liquid storage device (10).
(FR) Un dispositif de stockage de déchets liquides (10) et un système de gravure humide comprenant le dispositif de stockage de déchets liquides (10), pour stocker un liquide résiduaire (20) généré par gravure humide. Le liquide résiduaire (20) comprend un premier soluté (22) et un second soluté (24), le second soluté (24) étant un catalyseur pour une réaction d'oxydation exothermique du premier soluté (22). Le dispositif de stockage de déchets liquides (10) comprend un premier réservoir de stockage de liquide (11) et un premier conduit (12) pour relier une source de solution de complexant externe (30) au premier réservoir de stockage de liquide (11). Le premier réservoir de stockage de liquide (11) est utilisé pour stocker les déchets liquides (20), le premier conduit (12) est utilisé pour acheminer un complexant (32) vers le premier réservoir de stockage de liquide (11), et le complexant (32) est utilisé pour inhiber l'action catalytique du second soluté (24) dans la réaction du premier soluté (22). Le système de gravure humide (100) comprend une machine de gravure humide (40) pour graver des pièces et générer les déchets liquides (20), et le dispositif de stockage de déchets liquides (10).
(ZH) 一种废液存储装置(10)及具有该废液存储装置(10)的湿式蚀刻系统,用于存储湿式蚀刻产生的废液(20),废液(20)包括第一溶质(22)和第二溶质(24),第二溶质(24)为第一溶质(22)发生放热氧化反应的催化剂,废液存储装置(10)包括第一储液罐(11)和连接外部的络合剂溶液源(30)与第一储液罐(11)的第一管路(12),第一储液罐(11)用于存储废液(20),第一管路(12)用于将络合剂(32)导引到第一储液罐(11),络合剂(32)用于抑制第二溶质(24)对第一溶质(22)反应的催化能力。其中,湿式蚀刻系统(100)包括用于蚀刻工件和产生废液(20)的湿式蚀刻机台(40)和废液存储装置(10)。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)