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1. (WO2019032787) RÉSEAU D'ÉLECTRODES DISTRIBUÉES POUR TRAITEMENT AU PLASMA
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N° de publication : WO/2019/032787 N° de la demande internationale : PCT/US2018/045939
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 09.08.2018
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
COLLINS, Kenneth S.; US
RICE, Michael R.; US
RAMASWAMY, Kartik; US
CARDUCCI, James D.; US
GUO, Yue; US
REGELMAN, Olga; US
Mandataire :
PATTERSON, B. Todd; US
STEVENS, Joseph J.; US
Données relatives à la priorité :
62/543,76910.08.2017US
Titre (EN) A DISTRIBUTED ELECTRODE ARRAY FOR PLASMA PROCESSING
(FR) RÉSEAU D'ÉLECTRODES DISTRIBUÉES POUR TRAITEMENT AU PLASMA
Abrégé :
(EN) Embodiments of the disclosure provide a plasma source assembly and process chamber design that can be used for any number of substrate processing techniques. The plasma source may include a plurality of discrete electrodes that are integrated with a reference electrode and a gas feed structure to generate a uniform, stable and repeatable plasma during processing. The plurality of discrete electrodes include an array of electrodes that can be biased separately, in groups, or all in unison relative to a reference electrode. The plurality of discrete electrodes may include a plurality of conductive rods that are positioned to generate a plasma within a processing region of a process chamber. The plurality of discrete electrodes is provided RF power from standing or traveling waves imposed on a power distribution element to which the electrodes are connected.
(FR) Selon certains modes de réalisation, cette invention concerne une conception d'ensemble source de plasma et chambre de traitement pouvant être utilisé dans un grand nombre de techniques de traitement de substrat. La source de plasma peut comprendre une pluralité d'électrodes discrètes qui sont intégrées à une électrode de référence et une structure d'alimentation en gaz pour générer un plasma uniforme, stable et répétable pendant le traitement. La pluralité d'électrodes discrètes comprend un réseau d'électrodes pouvant être polarisées séparément, par groupes, ou toutes ensemble par rapport à une électrode de référence. La pluralité d'électrodes discrètes peut comprendre une pluralité de tiges conductrices qui sont positionnées de sorte à générer un plasma à l'intérieur d'une région de traitement d'une chambre de traitement. La pluralité d'électrodes discrètes est alimentée en énergie RF à partir d'ondes stationnaires ou progressives appliquées à un élément de distribution d'énergie auquel les électrodes sont connectées.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)