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1. (WO2019032753) MATÉRIAUX, COMPOSANT, ET PROCÉDÉS D'UTILISATION AVEC UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME EN LITHOGRAPHIE ET DANS D'AUTRES APPLICATIONS
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N° de publication : WO/2019/032753 N° de la demande internationale : PCT/US2018/045878
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 08.08.2018
CIB :
G02B 1/10 (2015.01) ,G02B 5/08 (2006.01) ,G03F 1/24 (2012.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1
Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
10
Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
08
Miroirs
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
22
Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p.ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]; Leur préparation
24
Masques en réflexion; Leur préparation
Déposants :
JAISWAL, Supriya [GB/US]; US
Inventeurs :
JAISWAL, Supriya; US
Mandataire :
KOLEGRAFF, William, J.; US
Données relatives à la priorité :
62/542,73408.08.2017US
Titre (EN) MATERIALS, COMPONENT, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS
(FR) MATÉRIAUX, COMPOSANT, ET PROCÉDÉS D'UTILISATION AVEC UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME EN LITHOGRAPHIE ET DANS D'AUTRES APPLICATIONS
Abrégé :
(EN) New classes of materials and associated components for use in devices and systems operating at ultraviolet (UV), extreme ultraviolet (EUV), and/or soft X-ray wavelengths are described. This invention relates to increasing the bandwidth and general performance of EUV reflective and transmissive materials. Such a material structure and combination may be used to make components such as mirrors, lenses or other optics, panels, light sources, photomasks, photoresists, or other components for use in applications such as lithography, wafer patterning, astronomical and space applications, biomedical applications, or other applications.
(FR) L'invention concerne de nouvelles classes de matériaux et des composants associés destinés à être utilisés dans des dispositifs et des systèmes fonctionnant à des longueurs d'ondes de l'ultraviolet (UV), de l'ultraviolet extrême (EUV) et/ou du rayon X doux. La présente invention concerne l'augmentation de la largeur de bande et la performance générale de matériaux réfléchissants et transmissifs de l'ultraviolet extrême EUV. Une telle structure et combinaison de matériaux peut être utilisée pour fabriquer des composants tels que des miroirs, des lentilles ou d'autres éléments optiques, des panneaux, des sources lumineuses, des masques photographiques, des résines photosensibles ou d'autres composants destinés à être utilisés dans des applications telles que la lithographie, le modelage de contours sur plaquettes, des applications astronomiques et spatiales, des applications biomédicales, ou d'autres applications.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)