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1. (WO2019032468) PLATEAU FRONTAL MULTI-PLAQUES POUR UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT
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N° de publication : WO/2019/032468 N° de la demande internationale : PCT/US2018/045424
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 06.08.2018
CIB :
H01L 21/67 (2006.01) ,H01J 37/32 (2006.01) ,H05H 1/46 (2006.01) ,H01L 21/687 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
46
utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683
pour le maintien ou la préhension
687
en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
SRIKANTAIAH, Deepak Doddabelavangala; US
TULSHIBAGWALE, Sheshraj L.; US
SINGH, Saravjeet; US
TAM, Alexander; US
Mandataire :
PATTERSON, B. Todd; US
TABOADA, Keith; US
Données relatives à la priorité :
15/671,90908.08.2017US
Titre (EN) MULTI-PLATE FACEPLATE FOR A PROCESSING CHAMBER
(FR) PLATEAU FRONTAL MULTI-PLAQUES POUR UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT
Abrégé :
(EN) Embodiments of the disclosure relate to a multi-plate faceplate having a first plate and a second plate. The first plate has a plurality of first plate openings. The second plate has a first surface, an opposed second surface and a plurality of second plate openings extending therethrough. The first surface is mechanically coupled to the first plate. A second plate opening has a conical portion configured to be fluidly coupled to a first plate opening and decreasing in cross-section in the depth direction thereof from the second surface. A surface of the conical portion is coated with a protective coating adjacent to the first and second surfaces. In another embodiment, the first plate has a protrusion extending therefrom into a recess formed inwardly of the first surface. The protrusion has a passage extending therethrough fluidly connected to the recess, which is fluidly connected to the second plate opening.
(FR) Selon certains modes de réalisation, cette invention concerne un plateau frontal multi-plaques ayant une première plaque et une seconde plaque. La première plaque présente une pluralité de premières ouvertures de plaque. La seconde plaque présente une première surface, une seconde surface opposée et une pluralité de secondes ouvertures de plaque s'étendant à travers celle-ci. La première surface est mécaniquement accouplée à la première plaque. Une seconde ouverture de plaque a une partie conique configurée pour être mise en communication fluidique avec une première ouverture de plaque et diminuer en section transversale dans le sens de la profondeur de celle-ci, à partir de la seconde surface. Une surface de la partie conique est revêtue d'un revêtement protecteur de manière adjacente aux première et seconde surfaces. Selon un autre mode de réalisation, la première plaque présente une saillie s'étendant à partir de celle-ci dans un renfoncement formé vers l'intérieur de la première surface. La saillie a un passage s'étendant à travers celle-ci en communication fluidique avec l'évidement, qui est en communication fluidique avec la seconde ouverture de plaque.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)