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1. (WO2019032412) MESURES DE BANDE INTERDITE D'EMPILEMENTS DE FILMS À MOTIFS PAR MÉTROLOGIE SPECTROSCOPIQUE
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N° de publication : WO/2019/032412 N° de la demande internationale : PCT/US2018/045302
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 06.08.2018
CIB :
G01J 3/02 (2006.01) ,G01J 3/28 (2006.01) ,G01J 3/12 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
J
MESURE DE L'INTENSITÉ, DE LA VITESSE, DU SPECTRE, DE LA POLARISATION, DE LA PHASE OU DES CARACTÉRISTIQUES D'IMPULSIONS DE LUMIÈRE INFRAROUGE, VISIBLE OU ULTRAVIOLETTE; COLORIMÉTRIE; PYROMÉTRIE DES RADIATIONS
3
Spectrométrie; Spectrophotométrie; Monochromateurs; Mesure de la couleur
02
Parties constitutives
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
J
MESURE DE L'INTENSITÉ, DE LA VITESSE, DU SPECTRE, DE LA POLARISATION, DE LA PHASE OU DES CARACTÉRISTIQUES D'IMPULSIONS DE LUMIÈRE INFRAROUGE, VISIBLE OU ULTRAVIOLETTE; COLORIMÉTRIE; PYROMÉTRIE DES RADIATIONS
3
Spectrométrie; Spectrophotométrie; Monochromateurs; Mesure de la couleur
28
Etude du spectre
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
J
MESURE DE L'INTENSITÉ, DE LA VITESSE, DU SPECTRE, DE LA POLARISATION, DE LA PHASE OU DES CARACTÉRISTIQUES D'IMPULSIONS DE LUMIÈRE INFRAROUGE, VISIBLE OU ULTRAVIOLETTE; COLORIMÉTRIE; PYROMÉTRIE DES RADIATIONS
3
Spectrométrie; Spectrophotométrie; Monochromateurs; Mesure de la couleur
12
Production du spectre; Monochromateurs
Déposants :
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs :
WANG, Tianhan; US
ROSENBERG, Aaron; US
HU, Dawei; CN
KUZNETSOV, Alexander; US
NGUYEN, Manh, D.; US
PANDEV, Stilian; US
LESOINE, John; US
ZHAO, Qiang; US
LEE, Lie-Quan Rich; US
CHOUAIB, Houssam; US
DI, Ming; US
KAACK, Torsten; US
SHCHEGROV, Andrei; US
TAN, Zhengquan; US
Mandataire :
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M. N.; US
Données relatives à la priorité :
15/672,12008.08.2017US
62/542,26007.08.2017US
Titre (EN) BANDGAP MEASUREMENTS OF PATTERNED FILM STACKS USING SPECTROSCOPIC METROLOGY
(FR) MESURES DE BANDE INTERDITE D'EMPILEMENTS DE FILMS À MOTIFS PAR MÉTROLOGIE SPECTROSCOPIQUE
Abrégé :
(EN) A spectroscopic metrology system includes a spectroscopic metrology tool and a controller. The controller generates a model of a multilayer grating including two or more layers, the model including geometric parameters indicative of a geometry of a test layer of the multilayer grating and dispersion parameters indicative of a dispersion of the test layer. The controller further receives a spectroscopic signal of a fabricated multilayer grating corresponding to the modeled multilayer grating from the spectroscopic metrology tool. The controller further determines values of the one or more parameters of the modeled multilayer grating providing a simulated spectroscopic signal corresponding to the measured spectroscopic signal within a selected tolerance. The controller further predicts a bandgap of the test layer of the fabricated multilayer grating based on the determined values of the one or more parameters of the test layer of the fabricated structure.
(FR) L'invention concerne un système de métrologie spectroscopique qui comprend un outil de métrologie spectroscopique et un dispositif de commande. Le dispositif de commande crée un modèle d'un réseau multicouche comprenant deux couches ou plus, le modèle comprenant des paramètres géométriques indicatifs d'une géométrie d'une couche à tester du réseau multicouche et des paramètres de dispersion indicatifs d'une dispersion de la couche à tester. Le dispositif de commande reçoit en outre un signal spectroscopique d'un réseau multicouche fabriqué correspondant au réseau multicouche modélisé par l'outil de métrologie spectroscopique. Le dispositif de commande détermine en outre des valeurs du ou des paramètres du réseau multicouche modélisé fournissant un signal spectroscopique simulé correspondant au signal spectroscopique mesuré dans un intervalle de tolérance sélectionné. Le dispositif de commande prédit en outre une bande interdite de la couche à tester du réseau multicouche fabriqué sur la base des valeurs déterminées du ou des paramètres de la couche à tester de la structure fabriquée.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)