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1. (WO2019031613) AGENT DE DÉVIATION ET PROCÉDÉ UTILISANT CELUI-CI POUR REMPLIR UNE FISSURE DE DESCENTE
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N° de publication : WO/2019/031613 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/030142
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 10.08.2018
CIB :
C09K 8/506 (2006.01) ,C08F 8/00 (2006.01) ,C08F 8/12 (2006.01) ,C08F 16/06 (2006.01) ,C09K 8/68 (2006.01) ,E21B 43/267 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
8
Compositions pour le forage des puits ou des trous de forage; Compositions pour le traitement des puits ou des trous de forage, p.ex. pour des opérations de complétion ou de réparation
50
Compositions pour le plâtrage des parois de trous de forage, c. à d. compositions pour la consolidation temporaire des parois des trous de forage
504
Compositions à base d'eau ou de solvants polaires
506
contenant des composés organiques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
8
Modification chimique par post-traitement
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
8
Modification chimique par post-traitement
12
Hydrolyse
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
16
Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un radical alcool, éther, aldéhyde, cétone, acétal ou cétal
02
par un radical alcool
04
Composés acycliques
06
Alcool polyvinylique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
8
Compositions pour le forage des puits ou des trous de forage; Compositions pour le traitement des puits ou des trous de forage, p.ex. pour des opérations de complétion ou de réparation
60
Compositions pour activer la production en agissant sur la formation souterraine
62
Compositions pour la formation de crevasses ou de fractures
66
Compositions à base d'eau ou de solvants polaires
68
contenant des composés organiques
E CONSTRUCTIONS FIXES
21
FORAGE DU SOL OU DE LA ROCHE; EXPLOITATION MINIÈRE
B
FORAGE DU SOL OU DE LA ROCHE; EXTRACTION DU PÉTROLE, DU GAZ, DE L'EAU OU DE MATÉRIAUX SOLUBLES OU FUSIBLES OU D'UNE SUSPENSION DE MATIÈRES MINÉRALES À PARTIR DE PUITS
43
Procédés ou dispositifs pour l'extraction de pétrole, de gaz, d'eau ou de matériaux solubles ou fusibles ou d'une suspension de matières minérales à partir de puits
25
Procédés pour activer la production
26
par formation de crevasses ou de fractures
267
Maintien de fractures par étaiement
Déposants :
日本合成化学工業株式会社 THE NIPPON SYNTHETIC CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区小松原町2番4号 2-4, Komatsubara-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300018, JP
Inventeurs :
▲辻▼ 和俊 TSUJI Kazutoshi; JP
酒井 紀人 SAKAI Norihito; JP
藤田 智也 FUJITA Tomoya; JP
坂 隆裕 SAKA Takahiro; JP
風呂 千津子 FURO Chizuko; JP
Mandataire :
特許業務法人栄光特許事務所 EIKOH PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング10階 Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
Données relatives à la priorité :
2017-15504010.08.2017JP
2017-25484228.12.2017JP
2017-25484328.12.2017JP
Titre (EN) DIVERTING AGENT AND METHOD USING SAME FOR FILLING CRACK OF WINZE
(FR) AGENT DE DÉVIATION ET PROCÉDÉ UTILISANT CELUI-CI POUR REMPLIR UNE FISSURE DE DESCENTE
(JA) ダイバーティングエージェント及びこれを用いた坑井の亀裂の閉塞方法
Abrégé :
(EN) The present invention addresses the problem of providing a diverting agent which gradually dissolves in water. The present invention pertains to a diverting agent containing a polyvinyl alcohol resin, and a method for blocking a crack using the diverting agent.
(FR) La présente invention aborde le problème de la fourniture d'un agent de déviation qui se dissout progressivement dans l'eau. La présente invention concerne un agent de déviation contenant une résine d'alcool polyvinylique, et un procédé de blocage d'une fissure à l'aide de l'agent de déviation.
(JA) 本発明は、水に徐々に溶解するダイバーティングエージェントを提供することを解決すべき課題としている。本発明は、ポリビニルアルコール系樹脂を含有する、ダイバーティングエージェント、及び該ダイバーティングエージェントを用いて亀裂を閉塞させる方法に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)