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1. (WO2019031549) MATÉRIAU DE BORNE DOTÉ DE FILM DE REVÊTEMENT D'ARGENT ET BORNE DOTÉ DE FILM DE REVÊTEMENT D'ARGENT
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N° de publication : WO/2019/031549 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/029780
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 08.08.2018
CIB :
C25D 7/00 (2006.01) ,C25D 5/12 (2006.01) ,C25D 5/50 (2006.01) ,H01R 13/03 (2006.01) ,H01R 13/11 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
7
Dépôts de métaux par voie électrolytique caractérisés par l'objet à revêtir
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
5
Dépôts de métaux par voie électrolytique caractérisés par le procédé; Prétraitement ou post-traitement des pièces
10
Dépôts de plusieurs couches du même métal ou de métaux différents
12
au moins une couche étant du nickel ou du chrome
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
5
Dépôts de métaux par voie électrolytique caractérisés par le procédé; Prétraitement ou post-traitement des pièces
48
Post-traitement des surfaces revêtues de métaux par voie électrolytique
50
par traitement thermique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
R
CONNEXIONS CONDUCTRICES DE L'ÉLECTRICITÉ; ASSOCIATION STRUCTURELLE DE PLUSIEURS ÉLÉMENTS DE CONNEXION ÉLECTRIQUE ISOLÉS LES UNS DES AUTRES; DISPOSITIFS DE COUPLAGE; COLLECTEURS DE COURANT
13
Détails de dispositifs de couplage des types couverts par les groupes H01R12/7098
02
Contacts
03
caractérisés par le matériau, p.ex. matériaux de plaquage ou de revêtement
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
R
CONNEXIONS CONDUCTRICES DE L'ÉLECTRICITÉ; ASSOCIATION STRUCTURELLE DE PLUSIEURS ÉLÉMENTS DE CONNEXION ÉLECTRIQUE ISOLÉS LES UNS DES AUTRES; DISPOSITIFS DE COUPLAGE; COLLECTEURS DE COURANT
13
Détails de dispositifs de couplage des types couverts par les groupes H01R12/7098
02
Contacts
10
Alvéoles destinés à coopérer avec des broches ou lames
11
Alvéoles élastiques
Déposants :
三菱マテリアル株式会社 MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目3-2 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117, JP
Inventeurs :
久保田 賢治 KUBOTA, Kenji; JP
西村 透 NISHIMURA, Tooru; JP
玉川 隆士 TAMAGAWA, Takashi; JP
中矢 清隆 NAKAYA, Kiyotaka; JP
Mandataire :
青山 正和 AOYAMA, Masakazu; JP
Données relatives à la priorité :
2017-15362408.08.2017JP
2018-12309728.06.2018JP
Titre (EN) TERMINAL MATERIAL WITH SILVER COATING FILM, AND TERMINAL WITH SILVER COATING FILM
(FR) MATÉRIAU DE BORNE DOTÉ DE FILM DE REVÊTEMENT D'ARGENT ET BORNE DOTÉ DE FILM DE REVÊTEMENT D'ARGENT
(JA) 銀皮膜付端子材及び銀皮膜付端子
Abrégé :
(EN) This terminal material with a silver coating film, which has a silver layer on the surface, enables the production of a terminal material and a terminal having high reliability at low cost without requiring a heat treatment. According to the present invention, a nickel layer, an intermediate layer and a silver layer are sequentially laminated on a base material, which is formed of copper or a copper alloy, in this order; the nickel layer has a thickness of from 0.05 μm to 5.00 μm (inclusive), and is formed of nickel or a nickel alloy; the intermediate layer has a thickness of from 0.02 μm to 1.00 μm (inclusive), and is formed of an alloy that contains silver (Ag) and a substance X; and the substance X contains one or more elements selected from among tin, bismuth, gallium, indium and germanium.
(FR) Le matériau de borne doté de film de revêtement d'argent selon l'invention, qui comporte une couche d'argent sur la surface, permet de produire un matériau de borne et une borne ayant une fiabilité élevée, pour un coût modique et sans nécessiter un traitement thermique. Selon la présente invention, une couche de nickel, une couche intermédiaire et une couche d'argent sont stratifiées séquentiellement, dans cet ordre, sur un matériau de base formé de cuivre ou d'un alliage de cuivre. La couche de nickel a une épaisseur de 0,05 µm à 5,00 µm (inclus) et elle est formée de nickel ou d'un alliage de nickel ; la couche intermédiaire a une épaisseur de 0,02 µm à 1,00 µm (inclus) et elle est formée d'un alliage qui contient de l'argent (Ag) et une substance X ; et la substance X contient un ou plusieurs éléments choisis parmi l'étain, le bismuth, le gallium, l'indium et le germanium.
(JA) 表面に銀層を有する銀皮膜付端子材において、熱処理によることなく、信頼性の高い端子および端子材を安価に製造する。 銅又は銅合金からなる基材の上に、ニッケル層、中間層、銀層がこの順に積層されており、前記ニッケル層は厚さが0.05μm以上5.00μm以下であり、ニッケル又はニッケル合金からなり、前記中間層は、厚みが0.02μm以上1.00μm以下であり、銀(Ag)と物質Xとを含む合金であり、前記物質Xが錫、ビスマス、ガリウム、インジウム及びゲルマニウムのうちの一種類以上を含む。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)