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1. (WO2019031406) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR PLAQUE ORIGINALE D'IMPRESSION EN RELIEF ET PLAQUE ORIGINALE D'IMPRESSION EN RELIEF OBTENUE À PARTIR DE CETTE DERNIÈRE
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N° de publication : WO/2019/031406 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/029236
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 03.08.2018
CIB :
G03F 7/037 (2006.01) ,B41N 1/12 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
032
avec des liants
037
les liants étant des polyamides ou des polyimides
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
N
CLICHÉS OU PLAQUES D'IMPRESSION; MATÉRIAUX POUR SURFACES UTILISÉES DANS L'IMPRESSION POUR IMPRIMER, ENCRER, MOUILLER OU SIMILAIRE; PRÉPARATION DE TELLES SURFACES POUR LEUR EMPLOI OU LEUR CONSERVATION
1
Clichés ou plaques d'impression; Matériaux à cet effet
12
en une autre matière que la pierre ou le métal
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
038
Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
Déposants :
東洋紡株式会社 TOYOBO CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区堂島浜二丁目2番8号 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230, JP
Inventeurs :
芳本 和也 YOSHIMOTO, Kazuya; JP
Mandataire :
風早 信昭 KAZAHAYA, Nobuaki; JP
浅野 典子 ASANO, Noriko; JP
Données relatives à la priorité :
2017-15248207.08.2017JP
2017-20362120.10.2017JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR RELIEF PRINTING ORIGINAL PLATE, AND RELIEF PRINTING ORIGINAL PLATE USING SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR PLAQUE ORIGINALE D'IMPRESSION EN RELIEF ET PLAQUE ORIGINALE D'IMPRESSION EN RELIEF OBTENUE À PARTIR DE CETTE DERNIÈRE
(JA) 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物及びそれを用いた凸版印刷原版
Abrégé :
(EN) Provided is a photosensitive resin composition that: when being used for an analog plate, can exert excellent image reproducibility with no missing highlight halftone dots even in development using a hard brush, while maintaining the printing durability, and further, can prevent increase in the surface stickiness, irrespective of increase of the blending ratio of a tertiary nitrogen atom-containing polyamide; and, when being used for a laser-engraved plate, can reduce degradation of the image reproducibility irrespective of use of a brush in a cleaning step following laser engraving, while exerting excellent durability during printing. The photosensitive resin composition contains (i) a modified partially saponified polyvinyl acetate having a functional group introduced in a side chain, (ii) a tertiary nitrogen atom-containing polyamide, (iii) a photopolymerizable unsaturated compound, and (iv) a photopolymerization initiator, wherein (ii) the tertiary nitrogen atom-containing polyamide contains 20-50 mol% of a structural unit obtained from a cyclohexanedicarboxylic acid and 50-95 mol% of alicyclic structural units in total, with respect to the total amounts of an aminocarboxylic acid unit (including cases where a lactam is a raw material), a dicarboxylic acid unit, and a diamine unit in a polyamide molecule. Also provided is a relief printing original plate having, on a support body, a photosensitive resin layer formed by use of the photosensitive resin composition.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible qui : lorsqu'elle est utilisée pour une plaque analogique, peut exercer une excellente reproductibilité d'image sans points de demi-teinte de surbrillance manquantes, même lors du développement à l'aide d'une brosse dure, tout en maintenant la durabilité d'impression, et en outre, peut empêcher une augmentation de l'adhésivité de surface, indépendamment de l'augmentation du rapport de mélange d'un polyamide contenant un atome d'azote tertiaire ; et, lorsqu'elle est utilisée pour une plaque gravée au laser, peut réduire la dégradation de la reproductibilité d'image indépendamment de l'utilisation d'une brosse dans une étape de nettoyage à la suite de la gravure au laser, tout en exerçant une excellente durabilité pendant l'impression. La composition de résine photosensible contient (i) un poly(acétate de vinyle) partiellement saponifié modifié, ayant un groupe fonctionnel introduit dans une chaîne latérale, (ii) un polyamide contenant un atome d'azote tertiaire, (iii) un composé insaturé photopolymérisable et (iv) un initiateur de photopolymérisation, et (ii) le polyamide contenant un atome d'azote tertiaire contient 20 à 50 % en moles d'un motif structural obtenue à partir d'un acide cyclohexanedicarboxylique et 50 à 95 % en moles de motifs structuraux alicycliques au total, par rapport aux quantités totales d'un motif d'acide aminocarboxylique (y compris les cas où un lactame est une matière première), un motif d'acide dicarboxylique et un motif diamine dans une molécule de polyamide. L'invention concerne également une plaque originale d'impression en relief comportant, sur un corps de support, une couche de résine photosensible formée par l'utilisation de la composition de résine photosensible.
(JA) アナログ版に使用する場合は、耐刷性を維持しつつ、硬いブラシで現像した場合でもハイライト網点に欠けのない優れた画像再現性を有し、しかも、第3級窒素原子含有ポリアミドの配合率を高くしても表面粘着を増大させないようにすることができ、レーザー彫刻版に使用する場合は、優れた印刷時の耐刷性を有しながら、レーザー彫刻後の洗浄工程をブラシで行なっても画像再現性の低下を少なくすることができる感光性樹脂組成物を提供する。この感光性樹脂組成物は、(i)側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニル、(ii)第3級窒素原子含有ポリアミド、(iii)光重合性不飽和化合物、及び(iv)光重合開始剤を含有し、(ii)第3級窒素原子含有ポリアミドが、ポリアミド分子中のアミノカルボン酸単位(原料としてラクタムの場合を含む)、ジカルボン酸単位、及びジアミン単位の合計に対して、シクロへキサンジカルボン酸より得られる構造単位を20~50モル%含有し、且つ脂環族構造単位を合計50~95モル%含有する。この感光性樹脂組成物を使用して形成された感光性樹脂層を支持体上に有する印刷原版も提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)