Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019031392) ANTENNE DE BALAYAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE ANTENNE DE BALAYAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/031392 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/029107
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 02.08.2018
CIB :
H01P 11/00 (2006.01) ,H01Q 3/34 (2006.01) ,H01Q 3/44 (2006.01) ,H01Q 13/22 (2006.01) ,H01Q 21/06 (2006.01) ,H05K 1/09 (2006.01) ,H05K 1/16 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
P
GUIDES D'ONDES; RÉSONATEURS, LIGNES OU AUTRES DISPOSITIFS DU TYPE GUIDE D'ONDES
11
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de guides d'ondes, résonateurs, lignes ou autres dispositifs du type guide d'ondes
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
Q
ANTENNES
3
Dispositifs pour changer ou faire varier l'orientation ou la forme du diagramme de directivité des ondes rayonnées par une antenne ou un système d'antenne
26
faisant varier la phase relative ou l'amplitude relative et l'énergie d'excitation entre deux ou plusieurs éléments rayonnants actifs; faisant varier la distribution de l'énergie à travers une ouverture rayonnante
30
faisant varier la phase
34
par des moyens électriques
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
Q
ANTENNES
3
Dispositifs pour changer ou faire varier l'orientation ou la forme du diagramme de directivité des ondes rayonnées par une antenne ou un système d'antenne
44
faisant varier les caractéristiques électriques ou magnétiques des dispositifs de réflexion, de réfraction ou de diffraction associés à l'élément rayonnant
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
Q
ANTENNES
13
Cornets ou embouchures de guide d'onde; Antennes à fentes; Antennes guide d'onde à ondes de fuite; Structures équivalentes produisant un rayonnement le long du trajet de l'onde guidée
20
Antennes constituées par un guide non résonnant à ondes de fuite ou une ligne de transmission; Structures équivalentes produisant un rayonnement le long du trajet de l'onde guidée
22
Fente longitudinale dans la paroi limite du guide d'onde ou d'une ligne de transmission
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
Q
ANTENNES
21
Systèmes ou réseaux d'antennes
06
Réseaux d'unités d'antennes, de même polarisation, excitées individuellement et espacées entre elles
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
1
Circuits imprimés
02
Détails
09
Emploi de matériaux pour réaliser le parcours métallique
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
1
Circuits imprimés
16
comprenant des composants électriques imprimés incorporés, p.ex. une résistance, un condensateur, une inductance imprimés
Déposants :
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventeurs :
美崎 克紀 MISAKI Katsunori; --
Mandataire :
奥田 誠司 OKUDA Seiji; JP
Données relatives à la priorité :
2017-15427109.08.2017JP
Titre (EN) SCANNING ANTENNA AND METHOD FOR PRODUCING SCANNING ANTENNA
(FR) ANTENNE DE BALAYAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE ANTENNE DE BALAYAGE
(JA) 走査アンテナおよび走査アンテナの製造方法
Abrégé :
(EN) This method for producing a scanning antenna produces a scanning antenna in which a plurality of antenna units are arranged, and which comprises: a TFT substrate that comprises a first dielectric substrate, a TFT, a gate bus line, a source bus line and a plurality of patch electrodes; a slot substrate that comprises a second dielectric substrate (51) and a slot electrode (55) having a plurality of slots (57) that are arranged so as to correspond to the plurality of patch electrodes; a liquid crystal layer; and a reflective conductive plate. This method for producing a scanning antenna comprises: a step (a) wherein a first conductive film (55a') containing copper is deposited on a first main surface of the second dielectric substrate; a step (b) wherein an oxide film (55o') is formed in the surface of the first conductive film by bringing the first conductive film into contact with the atmosphere after the step (a); and a step (c) wherein a second conductive film (55b') containing copper is deposited on the oxide film after the step (b).
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'une antenne de balayage qui fabrique une antenne de balayage dans laquelle sont agencées une pluralité d'unités d'antenne, et qui comprend : un substrat de transistor à couches minces qui comprend un premier substrat diélectrique, un transistor à couches minces, une ligne de bus de grille, une ligne de bus de source et une pluralité d'électrodes à plaques ; un substrat à fentes qui comprend un second substrat diélectrique (51) et une électrode à fentes (55) possédant une pluralité de fentes (57) qui sont agencées de façon à correspondre à la pluralité d'électrodes à plaques ; une couche de cristaux liquides ; et une plaque conductrice réfléchissante. Ce procédé de fabrication d'une antenne de balayage comprend : une étape (a) dans laquelle un premier film conducteur (55a') contenant du cuivre est déposé sur une première surface principale du second substrat diélectrique ; une étape (b) dans laquelle un film d'oxyde (55o') est formé dans la surface du premier film conducteur en amenant le premier film conducteur en contact avec l'atmosphère après l'étape (a) ; et une étape (c) dans laquelle un second film conducteur (55b') contenant du cuivre est déposé sur le film d'oxyde après l'étape (b).
(JA) 走査アンテナの製造方法は、複数のアンテナ単位が配列された走査アンテナであって、第1誘電体基板と、TFTと、ゲートバスラインと、ソースバスラインと、複数のパッチ電極とを有するTFT基板と、第2誘電体基板(51)と、複数のパッチ電極に対応して配置された複数のスロット(57)を有するスロット電極(55)とを有するスロット基板と、液晶層と、反射導電板とを有する走査アンテナの製造方法であって、第2誘電体基板の第1主面上に、銅を含む第1導電膜(55a')を堆積する工程(a)と、工程(a)の後に、第1導電膜を大気に接触させることによって、第1導電膜の表面に酸化膜(55o')を形成する工程(b)と、工程(b)の後に、酸化膜上に、銅を含む第2導電膜(55b')を堆積する工程(c)とを包含する。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)