Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019031360) MATÉRIAU DE MOULE DE RÉPLIQUE POUR EMPREINTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/031360 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/028899
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 01.08.2018
CIB :
B29C 59/02 (2006.01) ,B29C 33/40 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
59
Façonnage de surface, p.ex. gaufrage; Appareils à cet effet
02
par des moyens mécaniques, p.ex. par pressage
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
33
Moules ou noyaux; Leurs détails ou accessoires
38
caractérisés par la matière ou le procédé de fabrication
40
Matière plastique, p.ex. mousse, caoutchouc
Déposants :
日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋二丁目5番1号 5-1, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1036119, JP
Inventeurs :
小林 淳平 KOBAYASHI, Junpei; JP
加藤 拓 KATO, Taku; JP
首藤 圭介 SHUTO, Keisuke; JP
Mandataire :
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
Données relatives à la priorité :
2017-15245907.08.2017JP
2018-06070427.03.2018JP
Titre (EN) REPLICA MOLD MATERIAL FOR IMPRINTING
(FR) MATÉRIAU DE MOULE DE RÉPLIQUE POUR EMPREINTE
(JA) インプリント用レプリカモールド材料
Abrégé :
(EN) [Problem] To provide a novel replica mold material for imprinting. [Solution] A replica mold material for imprinting containing the following component (A), component (B), and component (C). (A): A di(meth)acrylate compound represented by formula (1) (in the formula, R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group; R3 and R4 each independently represent an alkylene group; R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group; r1 and r2 each independently represent an integer). (B): A non-crosslinkable copolymer having structural units represented by formula (2) and structural units represented by formula (3) (in the formula, R7 and R8 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group; X1 represents a linear alkyl group; X2 represents an alicyclic hydrocarbon group having an isobornyl structure, adamantane structure, tricyclodecane structure, etc.). (C): A photopolymerization initiator.
(FR) L'invention fournit un nouveau matériau de moule de réplique pour empreinte. Plus précisément, l'invention concerne matériau de moule de réplique pour empreinte qui comprend les composants (A), (B) et (C) suivants. (A) : composé di(méth)acrylate représenté par la formule (1) (Dans la formule, R1 et R2 représentent, chacun indépendamment, un atome d'hydrogène ou un groupe méthyl, R3 et R4 représentent, chacun indépendamment, un groupe alkylène, R5 et R6 représentent, chacun indépendamment, un atome d'hydrogène ou un groupe méthyl, r1 et r2 représentent, chacun indépendamment, un nombre entier ; (B) : copolymère non réticulable possédant une unité structurale représentée par la formule (2) et une unité structurale représentée par la formule (3) (Dans la formule, R7 et R8 représentent, chacun indépendamment, un atome d'hydrogène ou un groupe méthyl, X1 représente un groupe alkyle sous forme de chaîne, X2 représente un groupe hydrocarbure alicyclique ayant une structure isobornyle, une structure adamantanique, une structure tricyclodécane, ou similaire.) ; C : initiateur de photopolymérisation
(JA) 【課題】 新規なインプリント用レプリカモールド材料を提供する。 【解決手段】 下記(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有するインプリント用レプリカモールド材料。 (A):下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物 (式中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R3及びR4はそれぞれ独立にアルキレン基を表し、R5及びR6はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、r1及びr2はそれぞれ独立に整数を表す。) (B):下記式(2)で表される構造単位及び下記式(3)で表される構造単位を有する非架橋性の共重合体 (式中、R7及びR8はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、X1は鎖状アルキル基を表し、X2はイソボルニル構造、アダマンタン構造、トリシクロデカン構造等を有する脂環式炭化水素基を表す。) (C):光重合開始剤
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)