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1. (WO2019031359) MATÉRIAU DE MOULE DE RÉPLIQUE POUR EMPREINTE
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N° de publication : WO/2019/031359 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/028897
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 01.08.2018
CIB :
B29C 59/02 (2006.01) ,B29C 33/40 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
59
Façonnage de surface, p.ex. gaufrage; Appareils à cet effet
02
par des moyens mécaniques, p.ex. par pressage
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
33
Moules ou noyaux; Leurs détails ou accessoires
38
caractérisés par la matière ou le procédé de fabrication
40
Matière plastique, p.ex. mousse, caoutchouc
Déposants :
日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋二丁目5番1号 5-1, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1036119, JP
Inventeurs :
小林 淳平 KOBAYASHI, Junpei; JP
加藤 拓 KATO, Taku; JP
Mandataire :
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
Données relatives à la priorité :
2017-15245807.08.2017JP
Titre (EN) REPLICA MOLD MATERIAL FOR IMPRINTING
(FR) MATÉRIAU DE MOULE DE RÉPLIQUE POUR EMPREINTE
(JA) インプリント用レプリカモールド材料
Abrégé :
(EN) [Problem] To provide a novel replica mold material for imprinting. [Solution] An replica mold material for imprinting containing the following component (A), component (B), and component (C). (A): A di(meth)acrylate compound represented by formula (1) (in the formula, R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group; R3 and R4 each independently represent an alkylene group; R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group; r1 and r2 each independently represent an integer). (B): A compound having 2-4 groups represented by formula (2) (excluding the di(meth)acrylate compound represented by formula (1)) (in the formula, X represents a single bond or an alkylene group; R7 represents a hydrogen atom or a methyl group) per molecule. (C): A photopolymerization initiator.
(FR) L'invention fournit un nouveau matériau de moule de réplique pour empreinte. Plus précisément, l'invention concerne matériau de moule de réplique pour empreinte qui comprend les composants (A), (B) et (C) suivants. (A) : composé di(méth)acrylate représenté par la formule (1) (Dans la formule, R et R représentent, chacun indépendamment, un atome d'hydrogène ou un groupe méthyl, R et R représentent, chacun indépendamment, un groupe alkylène, R et R représentent, chacun indépendamment, un atome d'hydrogène ou un groupe méthyl, et r et r représentent, chacun indépendamment, un nombre entier.) (B) : groupe possédant dans chaque molécule 2 à 4 groupes représentés par la formule (2) (Ledit composé di(méth)acrylate représenté par la formule (1) étant exclu) (Dans la formule, X représente une liaison simple ou un groupe alkylène, et R représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyl. (C) : initiateur de photopolymérisation
(JA) 【課題】 新規なインプリント用レプリカモールド材料を提供する。 【解決手段】 下記(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有するインプリント用レプリカモールド材料。 (A):下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物 (式中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R及びRはそれぞれ独立にアルキレン基を表し、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、r及びrはそれぞれ独立に整数を表す。) (B):下記式(2)で表される基を一分子中に2つ乃至4つ有する化合物(但し、前記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物を除く。) (式中、Xは単結合又はアルキレン基を表し、Rは水素原子又はメチル基を表す。) (C):光重合開始剤
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)