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1. (WO2019031325) FILM ANTIREFLET
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N° de publication : WO/2019/031325 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/028779
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 01.08.2018
CIB :
G02B 1/115 (2015.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 9/00 (2006.01) ,C23C 14/06 (2006.01) ,G02B 1/14 (2015.01) ,G02B 1/18 (2015.01) ,G09F 9/00 (2006.01)
[IPC code unknown for G02B 1/115]
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
7
Produits stratifiés caractérisés par la relation entre les couches, c. à d. produits comprenant essentiellement des couches ayant des propriétés physiques différentes, ou produits caractérisés par la jonction entre couches
02
en ce qui concerne les propriétés physiques, p.ex. la dureté
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
9
Produits stratifiés composés essentiellement d'une substance particulière non couverte par les groupes B32B11/-B32B29/155
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
06
caractérisé par le matériau de revêtement
[IPC code unknown for G02B 1/14][IPC code unknown for G02B 1/18]
G PHYSIQUE
09
ENSEIGNEMENT; CRYPTOGRAPHIE; PRÉSENTATION; PUBLICITÉ; SCEAUX
F
PRÉSENTATION; PUBLICITÉ; ENSEIGNES; ÉTIQUETTES OU PLAQUES D'IDENTIFICATION; SCEAUX
9
Dispositifs d'affichage d'information variable, dans lesquels l'information est formée sur un support, par sélection ou combinaison d'éléments individuels
Déposants :
日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP
Inventeurs :
金谷 実 KANATANI Minoru; JP
梨木 智剛 NASHIKI Tomotake; JP
高見 佳史 TAKAMI Yoshihito; JP
Mandataire :
籾井 孝文 MOMII Takafumi; JP
Données relatives à la priorité :
2017-15331808.08.2017JP
2018-14336931.07.2018JP
Titre (EN) ANTI-REFLECTION FILM
(FR) FILM ANTIREFLET
(JA) 反射防止フィルム
Abrégé :
(EN) Provided is an anti-reflection film which has exceptional reflective properties (low reflective properties) in a broad spectrum and in which coloration is suppressed. This anti-reflection film has: a transparent substrate; and, in the following order from the transparent substrate, an adhesion layer, a first Nb2O5 layer, a first SiO2 layer, a second Nb2O5 layer, and a second SiO2 layer; the optical film thickness of the first Nb2O5 layer being 28-33 nm, the optical film thickness of the first SiO2 layer being 46-59 nm, the optical thickness of the second Nb2O5 layer being 262-286 nm, and the optical film thickness of the second SiO2 layer being 122-135 nm.
(FR) La présente invention concerne un film antireflet qui présente des propriétés de réflexion exceptionnelles (propriétés de réflexion faibles) dans un large spectre et dans lequel une coloration est supprimée. Ce film antireflet comporte : un substrat transparent ; et, dans l’ordre suivant à partir du substrat transparent, une couche d’adhérence, une première couche de Nb2O5, une première couche de SiO2, une deuxième couche de Nb2O5, et une deuxième couche de SiO2 ; l’épaisseur de film optique de la première couche de Nb2O5 étant de 28 à 33 nm, l’épaisseur de film optique de la première couche de SiO2 étant de 46 à 59 nm, l’épaisseur optique de la deuxième couche de Nb2O5 étant de 262 à 286 nm, et l’épaisseur de film optique de la deuxième couche de SiO2 étant de 122 à 135 nm.
(JA) 広帯域において優れた反射特性(低反射性)を有し、かつ、色付きの抑制された反射防止フィルムを提供する。 本発明の反射防止フィルムは、透明基材と、該透明基材から順に、密着層と、第1のNb層と、第1のSiO層と第2と、第2のNb層と、第2のSiO層とをこの順に有し、第1のNb層の光学膜厚が28nm~33nmであり、第1のSiO層の光学膜厚が、46nm~59nmであり、第2のNb層の光学膜厚が、262nm~286nmであり、第2のSiO層の光学膜厚が、122nm~135nmである。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)