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1. (WO2019031263) STRATIFIÉ DOTÉ DE PROPRIÉTÉS BARRIÈRE AU GAZ
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N° de publication : WO/2019/031263 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/028077
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 26.07.2018
CIB :
B32B 9/00 (2006.01) ,C23C 14/08 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
9
Produits stratifiés composés essentiellement d'une substance particulière non couverte par les groupes B32B11/-B32B29/155
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
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REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
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Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
06
caractérisé par le matériau de revêtement
08
Oxydes
Déposants :
東洋紡株式会社 TOYOBO CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区堂島浜二丁目2番8号 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230, JP
Inventeurs :
柏 充裕 KASHIWA, Mitsuhiro; JP
沼田 幸裕 NUMATA, Hiroyuki; JP
伊関 清司 ISEKI, Kiyoshi; JP
Données relatives à la priorité :
2017-15505910.08.2017JP
Titre (EN) GAS BARRIER LAMINATE
(FR) STRATIFIÉ DOTÉ DE PROPRIÉTÉS BARRIÈRE AU GAZ
(JA) ガスバリア性積層体
Abrégé :
(EN) The problem addressed by the present invention is to provide a gas barrier film with excellent acid resistance, transparency, and gas barrier properties. This gas barrier laminate is formed by laminating an inorganic thin-film layer on at least one surface of a polymer substrate. Said inorganic thin-film layer primarily contains Al and Si, and after treatment involving immersion in a 1 mol/L hydrochloric acid aqueous solution for one hour, the ratio of Al content before and after said treatment satisfies the expression (Al content after treatment)/(Al content before treatment) × 100 ≥ 75.
(FR) L'invention a pour objet de fournir un film barrière au gaz doté d'excellentes propriétés de résistance à l'acide, de transparence et de barrière au gaz. Plus précisément, l'invention concerne un stratifié doté de propriétés barrière au gaz tel qu'une couche mince inorganique est stratifiée sur au moins une face d'un matériau de base macromoléculaire. Cette couche mince inorganique contient essentiellement un Al et un Si, et présente un rapport de teneur en Al avant et après traitement satisfaisant la formule (teneur en Al après traitement) / (teneur en Al avant traitement)×100 ≧75, lorsque est effectué un traitement d'immersion pendant une heure dans une solution aqueuse d'acide chlorhydrique à 1mol/L.
(JA) 発明が解決しようとする課題は、耐酸性、透明性、ガスバリア性に優れたガスバリアフィルムを提供することである。 本発明のガスバリア性積層体は、高分子基材の少なくとも一方の面に無機薄膜層を積層した積層体であり、該無機薄膜層は、主としてAlとSiを含み、かつ1mol/Lの塩酸水溶液に1時間浸漬する処理を行った時の、処理前後のAl含有量の比が(処理後のAl含有量)/(処理前のAl含有量)×100 ≧75の式を満たす。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)